很多業(yè)內(nèi)朋友都知道，不銹鋼模具是需要進(jìn)行拋光后才能使用的。那么大家知道常見(jiàn)的不銹鋼模具拋光方法有哪幾種嗎?小編今日從東莞拋光廠天鐵五金獲悉，目前常用于不銹鋼模具拋光的拋光工藝主要有三種。
1、不銹鋼電解拋光
不銹鋼電解拋光工藝是一種利用電解化學(xué)反應(yīng)變化使不銹鋼零件表面平整光潔的拋光工藝的統(tǒng)稱。該拋光方式一般以被拋工件為陽(yáng)極，不溶性金屬為陰極，兩極同時(shí)浸入到電解槽中，通以直流電而產(chǎn)生有選擇性的陽(yáng)極溶解，工件表面逐漸整平，從而達(dá)到工件增大表面光亮度的效果。不銹鋼電解拋光工藝一般要經(jīng)過(guò)除油、除銹、電解拋光、中和、鈍化、包裝等工序，并且在除油、除銹、電解拋光、中和、鈍化工序間經(jīng)過(guò)水洗工序。不銹鋼電解拋光對(duì)電解拋光液一般都是有著嚴(yán)格的要求，不同材質(zhì)的不銹鋼使用的電解拋光液也不一樣，同一種拋光液應(yīng)用在不同的不銹鋼材料，得到的拋光效果也不一樣。
2、機(jī)械拋光
機(jī)械拋光是靠切削、材料表面塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到平滑面的拋光方法，一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等輔料展開(kāi)拋光工作。機(jī)械拋光在不銹鋼模具拋光工藝中的應(yīng)用一般是起到增加不銹鋼的清潔衛(wèi)生程度作用。
3、化學(xué)拋光
化學(xué)拋光是靠化學(xué)試劑的化學(xué)浸蝕作用對(duì)樣品表面凹凸不平區(qū)域的選擇性溶解作用消除磨痕、浸蝕整平的一種方法。化學(xué)拋光設(shè)備簡(jiǎn)單，能夠處理細(xì)管、帶有深孔及形狀復(fù)雜的零件，生產(chǎn)效率高。化學(xué)拋光也是不銹鋼模具拋光工藝中為常用的拋光方法。其對(duì)鋼鐵零件，尤其是低碳鋼常常有著較好的拋光效果。

亮度等級(jí)
目測(cè)法，將拋光后零件 表面的光亮度分為5級(jí)：
1級(jí)：表面有白色氧化膜，無(wú)光亮度；
2級(jí)：略有光亮，看不清輪廓；
3級(jí)：光亮度較好，能看出輪廓；
4級(jí)：表面光亮 ，較清晰地看出輪廓 (相當(dāng)于電化學(xué)拋光的表面質(zhì)量)；
5級(jí)：鏡面般光亮。
注意事項(xiàng)
研磨操作中用砂紙或砂帶進(jìn)行的研磨基本上屬于磨光切割操作，在鋼板表面留下很細(xì)的紋路。
在用氧化鋁作為磨料時(shí)曾遇到過(guò)麻煩，其部分原因是壓力問(wèn)題。
設(shè)備的任何研磨部件，如：砂帶和磨輪等，使用前絕不能用于其它非不銹鋼材料。因?yàn)檫@樣會(huì)污染不銹鋼表面。
為了保證表面加工的一致性，新砂輪或砂帶應(yīng)先在成分相同的廢料上試用，以便同樣品進(jìn)行比較。

二）、槽液的要求及控制：
1、槽液的成份及工藝條件：
CrO3: 240-260g/l
H2SO4: 2.4-3.0g/l
Cr3+: 2.2-2.8g/l 
溫度： 50-55℃
陰極電流密度： 25-35A/dm2
S陰極面積:S陽(yáng)極面積 1:2.5-3
2、每周對(duì)槽液進(jìn)行兩次分析，控制槽液在工藝范圍內(nèi)。
3、根據(jù)化驗(yàn)結(jié)果補(bǔ)加材料，要求溶解好后加入鍍槽中，并做好記錄。

三）、設(shè)備的要求：
1、電源：對(duì)直流電源應(yīng)發(fā)揮其應(yīng)有效率，一般的利用率不低于65%、不高于85%。波紋系數(shù)不高于5%。
2、銅排、陰陽(yáng)極桿應(yīng)根據(jù)電源的要求配制，以免在生產(chǎn)過(guò)程中發(fā)熱，損失電能，使電流不能有效輸出。
3、陽(yáng)極：陽(yáng)極面積應(yīng)是陰極的2.5-3倍，在實(shí)際生產(chǎn)中以掛滿為標(biāo)準(zhǔn)。
4、掛具：掛具應(yīng)根據(jù)產(chǎn)品的不同而設(shè)計(jì)，總的原則是導(dǎo)電好。
5、槽體：溶液體積大一點(diǎn)，成份變化小，同時(shí)可適應(yīng)大工件操作。
 
四）、操作要求：
1、做好半成品毛坯的檢查，對(duì)不合格的毛坯能修復(fù)的做好修復(fù)工作，不能修復(fù)的另行處理。
2、經(jīng)檢驗(yàn)合格的毛坯按公差大小分類，轉(zhuǎn)入下一道工序。
3、按電鍍硬鉻的工藝流程進(jìn)行操作。

五）、電鍍注意事項(xiàng)：
1、毛坯前處理應(yīng)干凈。
2、毛坯在槽液中預(yù)熱應(yīng)充分，工件溫度應(yīng)接近槽液溫度。
3、電鍍過(guò)程中溫度變化應(yīng)控制在±2℃范圍內(nèi)。
4、鍍鉻零件進(jìn)入槽液內(nèi)離液面不應(yīng)低于50mm。

1 整流器的基本原理及類型
1.1 傳統(tǒng)硅整流器
硅整流器使用歷史長(zhǎng)，技術(shù)成熟，目前是整流器主流產(chǎn)品。
1.1.1 整流電路。工業(yè)生產(chǎn)中一般采用三相調(diào)壓器調(diào)壓，50Hz三相工頻變壓器降壓的普通硅整流器。各種整流電路獲得的均是脈動(dòng)直流電，不是純直流，或多或少地含有交流成分。為了比較脈動(dòng)成份的多少，可用紋波系數(shù)來(lái)表示，其含義為交流成份在直流成分中占的百分比，其數(shù)值越小，交流成份越少，越接近純直流。
各種整流電路的波動(dòng)系數(shù)不同。其由大到小的次序?yàn)椋喝喟氩ㄕ鳌⑷嗳蚴秸骰驇胶怆娍蛊鞯牧嚯p反星形整流。其中后者工作時(shí)整流元件并聯(lián)導(dǎo)通，波形為平滑，整流效率較高，工作也較為可靠，時(shí)為常用的一種。
為了獲得低紋波輸出，則必須采用濾波或其它特殊措施。利用電容、電感貯能元件進(jìn)行濾波，是將脈動(dòng)直流轉(zhuǎn)變?yōu)檩^為平滑的直流的常用措施。但實(shí)際生產(chǎn)中，除試驗(yàn)用的小型整流器之外，工業(yè)生產(chǎn)基本上不進(jìn)行濾波。特殊情況可使用大電感。電容在低電壓、大電流情況下不適用于濾波。電容濾波，對(duì)工頻整流只適合于非常小功率的整流電源。例如輸出10A的單相全波整流器，要達(dá)到低紋波輸出，其濾波電容要達(dá)0.1F以上。隨著頻率的提高，所需電容量減小。
可控硅利用改變可控硅管導(dǎo)通角來(lái)調(diào)整輸出平均直流大小的普通可控硅整流器，可控硅管輸出的是間斷脈沖波，其紋波系數(shù)的受導(dǎo)通角控制，輸出紋波系數(shù)大于普通硅整流電路。特別是在使用電流低于額定電流較大的情況下，輸出波形脈動(dòng)系數(shù)更大。

1.1.2.整流元件類型
整流元件即通常所說(shuō)的二極管。由于整流器所有的輸出電流都要經(jīng)過(guò)整流元件，因此，可以說(shuō)是整流器的心臟。整流元件分為硅整流元件和可控硅整流元件二種。鍍鉻整流器主要使用硅整流元件。雖然可控硅技術(shù)已有了長(zhǎng)足的發(fā)展，且在電鍍上應(yīng)用也日趨增多，但筆者還是推薦使用硅整流器。其原因主要是波形問(wèn)題。可控硅整流是采用控制整流元件導(dǎo)通時(shí)間與截止時(shí)間長(zhǎng)短來(lái)控制電流的。整流器滿負(fù)荷使用時(shí)波形好。但輸出電流較小時(shí)電流波形變差。電流越小，波形越差。而硅整流器輸出電流大小對(duì)波形幾乎無(wú)影響。

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