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發(fā)布時間:2026-03-21 07:08:00
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電議
電議
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在不銹鋼、鋁及其合金、有色金屬以及黑色 金屬的精加工工業(yè)生產(chǎn)中,電拋光已成為不可 缺少的表面加工法之一。例如金屬制品和鍍層 表面的精修裝飾加工,使制品表面的光潔度達(dá) 到很高的等級,尤其對事先進(jìn)行過機(jī)械拋光的 零件可以達(dá)到鏡面般光澤,這對照明用具等反 光器材的生產(chǎn)是必不可少的。切削工具采用電拋光可消除其表面的變形層,增加刀具工作面 的光潔度,改善切削工具的工作條件,延長使用 壽命,避免機(jī)械磨光和拋光后可能造成刀具表 面金相組織變形,硬度降低,甚至出現(xiàn)裂紋的弊 病。千分尺、游標(biāo)尺、柱狀量規(guī)等計量工具經(jīng)電 拋光處理后,可滿足計量工具所需要的極高光 潔度和準(zhǔn)確度的要求。在醫(yī)療器械工業(yè)中,電 拋光是不銹鋼縫合針、外科手術(shù)器的磨刃的理 想加工方法。對一些特制設(shè)備,用電拋光可制 得拉拔方法難以得到的直徑為幾微米的表面光 潔度高的釷、鈮、鈾絲,且經(jīng)長時間放置其金屬 光澤也不會變暗。電拋光在金相磨片的制備方面也得到廣泛應(yīng)用。生產(chǎn)實踐證明,零件原始 光潔度低時,電拋光后一般能提高光潔度1~2 級;原始光潔度高時,可提高光潔度2~3級。 但電拋光技術(shù)尚存在一些不足,如迄今還未找 到可經(jīng)久使用、價格便宜并能拋光多種金屬的 通用電解液,現(xiàn)有的一些電解液成本高、使用周 期短,而且再生困難。因此,目前它的應(yīng)用范圍 受到一定的限制。

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電壓和陽極電流密度的影響
鋁制件通電氧化時,開始時很快在鋁制件表面生成一層薄而致密的氧化膜;隨之電阻增加電壓急劇升高,陽極電流密度逐漸減小。電壓繼續(xù)升高至一定值時,氧化膜因受電解液的溶解作用在較薄弱部位開始被電擊穿,促使電流通過,氧化過程繼續(xù)進(jìn)行。
鋼筆-陽極氧化能夠帶來豐富的色彩
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雜質(zhì)不利于陽極表面合金中含銅、硅等元素時,隨著氧化過程的進(jìn)行,同樣由于在電解液中的陽極溶解作用,使合金元素Cu2+, Si2+不斷集聚。當(dāng)Cu2+含量達(dá)0.02g/L時,氧化膜上會出現(xiàn)暗色條紋或黑色斑點。
電解液中可能存在的雜質(zhì)是Cl-、F-, N03-和Al3+, Cu2+、Fe2+等離子。當(dāng)Cl-,F-、N03-等陰離子雜質(zhì)含量高時,氧化膜的孔隙率大大增加,氧化膜表面變得粗糙和疏松。
這些雜質(zhì)在電解液中的允許含量為Cl- <0.05g/L, F- < 0.01 g/L。當(dāng)超過這極限值,制品表面會發(fā)生穿孔而報廢。這些陰離子雜質(zhì)來自配制電解液和清洗工序中的水源,因此必須嚴(yán)格控制水質(zhì)。
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電解液混濁度的負(fù)面影響
陽極氧化時,電解液的混濁度對氧化膜表面光亮度影響極大。
通常,硫酸氧化膜是透明的,它的主要成分是Al2O3。多孔狀的氧化膜具有極大的吸附性能,利用這一特點將鋁和鋁合金表面進(jìn)行各種色彩圖案花紋的裝飾。
若在電解液中含有各種不透明的固態(tài)混濁物,也被吸附填充到膜孔中去,會使氧化膜透明度下降,膜層的反光率受到阻擋,從而影響氧化膜的光亮度。
混濁物來源于鋁制件前處理不良和清洗水質(zhì)不凈,或由于陰陽極反應(yīng)劇烈與溶液的對流作用使雜質(zhì)不易沉淀于缸底,被分散懸浮在電解液中,電解液透明度較差,甚至不透明并帶有一定的色澤。因此,對那些外觀要求較高的鋁制品,在氧化過程中,必須對電解液進(jìn)行連續(xù)過濾。

電源的檢修與維護(hù)
在電鍍電源的使用過程中,用戶需要根據(jù)使用的環(huán)境定期對電源進(jìn)行檢修和維護(hù),下面根據(jù)我廠的一些經(jīng)驗簡單的介紹下維護(hù)和檢修的步驟:
A、打開電源箱之前需要斷開外部電源30分鐘。
B、打開電源箱之后,清掃各部分的塵埃,可用干布或者毛刷,也可以用壓縮空氣吹試,但應(yīng)注意氣壓不可太高,以免損壞元器件。
C、檢查電源是否正常,檢查空氣開關(guān)分段是否可靠。
D、檢查風(fēng)扇工作是否異常,有無雜聲。
E、檢查輸出銅排有無氧化的現(xiàn)象,要及時進(jìn)行處理。
F、檢查螺絲,螺帽有無異常松動的情況等。
G、對于水冷電鍍電源,如果發(fā)現(xiàn)機(jī)器有水流出,應(yīng)檢查水路中是否漏水,應(yīng)擰緊卡簧。
電鍍屬于電解加工過程,電源的因素必將對電鍍工藝過程產(chǎn)生直接影響,電鍍電源在電鍍工藝中具有重要地位。電鍍電源和低紋波系數(shù)整流電源在電鍍行業(yè)中的應(yīng)用,讓電鍍界同仁在選擇整流電源、解決電鍍故障、提高電鍍質(zhì)量有所幫助。

1 整流器的基本原理及類型
1.1 傳統(tǒng)硅整流器
硅整流器使用歷史長,技術(shù)成熟,目前是整流器主流產(chǎn)品。
1.1.1 整流電路。工業(yè)生產(chǎn)中一般采用三相調(diào)壓器調(diào)壓,50Hz三相工頻變壓器降壓的普通硅整流器。各種整流電路獲得的均是脈動直流電,不是純直流,或多或少地含有交流成分。為了比較脈動成份的多少,可用紋波系數(shù)來表示,其含義為交流成份在直流成分中占的百分比,其數(shù)值越小,交流成份越少,越接近純直流。
各種整流電路的波動系數(shù)不同。其由大到小的次序為:三相半波整流、三相全波橋式整流或帶平衡電抗器的六相雙反星形整流。其中后者工作時整流元件并聯(lián)導(dǎo)通,波形為平滑,整流效率較高,工作也較為可靠,時為常用的一種。
為了獲得低紋波輸出,則必須采用濾波或其它特殊措施。利用電容、電感貯能元件進(jìn)行濾波,是將脈動直流轉(zhuǎn)變?yōu)檩^為平滑的直流的常用措施。但實際生產(chǎn)中,除試驗用的小型整流器之外,工業(yè)生產(chǎn)基本上不進(jìn)行濾波。特殊情況可使用大電感。電容在低電壓、大電流情況下不適用于濾波。電容濾波,對工頻整流只適合于非常小功率的整流電源。例如輸出10A的單相全波整流器,要達(dá)到低紋波輸出,其濾波電容要達(dá)0.1F以上。隨著頻率的提高,所需電容量減小。
可控硅利用改變可控硅管導(dǎo)通角來調(diào)整輸出平均直流大小的普通可控硅整流器,可控硅管輸出的是間斷脈沖波,其紋波系數(shù)的受導(dǎo)通角控制,輸出紋波系數(shù)大于普通硅整流電路。特別是在使用電流低于額定電流較大的情況下,輸出波形脈動系數(shù)更大。
1.1.2.整流元件類型
整流元件即通常所說的二極管。由于整流器所有的輸出電流都要經(jīng)過整流元件,因此,可以說是整流器的心臟。整流元件分為硅整流元件和可控硅整流元件二種。鍍鉻整流器主要使用硅整流元件。雖然可控硅技術(shù)已有了長足的發(fā)展,且在電鍍上應(yīng)用也日趨增多,但筆者還是推薦使用硅整流器。其原因主要是波形問題。可控硅整流是采用控制整流元件導(dǎo)通時間與截止時間長短來控制電流的。整流器滿負(fù)荷使用時波形好。但輸出電流較小時電流波形變差。電流越小,波形越差。而硅整流器輸出電流大小對波形幾乎無影響。