一些以硫酸為基除灰的商品化除灰添加劑，大多添加一種或多種添加劑，如氧化劑等。

1.溶液的溫度與電壓的關系

在額定的范圍內溶液的溫度越低，所需的電壓應越高，因為溶液溫度較低時氧化膜生成速度較緩慢，膜層較為致密，為獲得一定厚度的氧化膜，陽極氧化過程需升高電壓。當溶液的溫度較高時，氧化膜的溶解速度加塊，且生成的氧化膜是疏松的，此時降低電壓能適當改善氧化膜的質量。

2.陽極氧化溶液溫度與時間的關系  

溶液的溫度越低，所需的陽極氧化時間應越長。因為溶液溫度較低時氧化膜的生成速度緩慢。溶液的溫度升高時則氧化膜的生成速度加快。此時要縮短陽極氧化時間，否則由于氧化膜的外層電阻加大而導致膜層溶解，出現工件尺寸的改變、表面粗糙掉膜的現象。

以上措施只是在既無降溫設備，又無加溫裝置的條件下采取的應急措施。

二、染黑色溶液的配方與配制過程
1.配方及工藝條件

酸性毛元 

ATT 20～30g/L

酸性湖藍

 2～3g/L

溫度 

50～70℃

時間  

10～15min

PH值

3～3.5(或4.5～5.5)

2.配制方法

首先煮沸溶液，促使染料溶解完全，保證無疙瘩。待溶液冷卻后用濾紙過濾，濾去不溶物微粒及液面上漂浮的油狀物質。后測量pH值，用冷醋酸或氨水調整至工藝要求。

電拋光為金屬表面精加工的一種方法。它是以懸掛在電解槽中的金屬制品為陽極，于特定條件下電解，通過陽極金屬的溶解，以消除制品表面的細微不平，使之具有鏡面般光澤外觀的過程。常用這種方法提高鋁及其合金、碳鋼、不銹鋼以及其他有色金屬表面的光潔度，來滿足某些部件工作條件中的需要（例如需要降低表面的摩擦系數、要求精密的公差配合等）和改善金屬制品的裝飾性外觀。
電拋光還可以除去金屬表面上的某些機械損傷。與機械拋光相比，電拋光加工后的表面無應力產生。但是，過于粗糙的表面，不宜于直接進行電拋光。

電解時，一般說來，電解中的金屬陽極溶解往往使金屬表面變得更加粗糙。盡管有時表面能變得比較平整，但也難以使其表面達到光澤。因此，電拋光需要在一定成分的電解液中和特定的工藝條件（電流密度、溫度、拋光時間、對電解液的攪拌條件等）下進行。而且對不同金屬材料的電拋光，所要求的電解液成分與工藝條件也明顯不同。

1 整流器的基本原理及類型
1.1 傳統硅整流器
硅整流器使用歷史長，技術成熟，目前是整流器主流產品。
1.1.1 整流電路。工業生產中一般采用三相調壓器調壓，50Hz三相工頻變壓器降壓的普通硅整流器。各種整流電路獲得的均是脈動直流電，不是純直流，或多或少地含有交流成分。為了比較脈動成份的多少，可用紋波系數來表示，其含義為交流成份在直流成分中占的百分比，其數值越小，交流成份越少，越接近純直流。
各種整流電路的波動系數不同。其由大到小的次序為：三相半波整流、三相全波橋式整流或帶平衡電抗器的六相雙反星形整流。其中后者工作時整流元件并聯導通，波形為平滑，整流效率較高，工作也較為可靠，時為常用的一種。
為了獲得低紋波輸出，則必須采用濾波或其它特殊措施。利用電容、電感貯能元件進行濾波，是將脈動直流轉變為較為平滑的直流的常用措施。但實際生產中，除試驗用的小型整流器之外，工業生產基本上不進行濾波。特殊情況可使用大電感。電容在低電壓、大電流情況下不適用于濾波。電容濾波，對工頻整流只適合于非常小功率的整流電源。例如輸出10A的單相全波整流器，要達到低紋波輸出，其濾波電容要達0.1F以上。隨著頻率的提高，所需電容量減小。
可控硅利用改變可控硅管導通角來調整輸出平均直流大小的普通可控硅整流器，可控硅管輸出的是間斷脈沖波，其紋波系數的受導通角控制，輸出紋波系數大于普通硅整流電路。特別是在使用電流低于額定電流較大的情況下，輸出波形脈動系數更大。

1.1.2.整流元件類型
整流元件即通常所說的二極管。由于整流器所有的輸出電流都要經過整流元件，因此，可以說是整流器的心臟。整流元件分為硅整流元件和可控硅整流元件二種。鍍鉻整流器主要使用硅整流元件。雖然可控硅技術已有了長足的發展，且在電鍍上應用也日趨增多，但筆者還是推薦使用硅整流器。其原因主要是波形問題。可控硅整流是采用控制整流元件導通時間與截止時間長短來控制電流的。整流器滿負荷使用時波形好。但輸出電流較小時電流波形變差。電流越小，波形越差。而硅整流器輸出電流大小對波形幾乎無影響。

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