1 整流器的基本原理及類(lèi)型
1.1 傳統(tǒng)硅整流器
硅整流器使用歷史長(zhǎng)，技術(shù)成熟，目前是整流器主流產(chǎn)品。
1.1.1 整流電路。工業(yè)生產(chǎn)中一般采用三相調(diào)壓器調(diào)壓，50Hz三相工頻變壓器降壓的普通硅整流器。各種整流電路獲得的均是脈動(dòng)直流電，不是純直流，或多或少地含有交流成分。為了比較脈動(dòng)成份的多少，可用紋波系數(shù)來(lái)表示，其含義為交流成份在直流成分中占的百分比，其數(shù)值越小，交流成份越少，越接近純直流。
各種整流電路的波動(dòng)系數(shù)不同。其由大到小的次序?yàn)椋喝喟氩ㄕ鳌⑷嗳蚴秸骰驇胶怆娍蛊鞯牧嚯p反星形整流。其中后者工作時(shí)整流元件并聯(lián)導(dǎo)通，波形為平滑，整流效率較高，工作也較為可靠，時(shí)為常用的一種。
為了獲得低紋波輸出，則必須采用濾波或其它特殊措施。利用電容、電感貯能元件進(jìn)行濾波，是將脈動(dòng)直流轉(zhuǎn)變?yōu)檩^為平滑的直流的常用措施。但實(shí)際生產(chǎn)中，除試驗(yàn)用的小型整流器之外，工業(yè)生產(chǎn)基本上不進(jìn)行濾波。特殊情況可使用大電感。電容在低電壓、大電流情況下不適用于濾波。電容濾波，對(duì)工頻整流只適合于非常小功率的整流電源。例如輸出10A的單相全波整流器，要達(dá)到低紋波輸出，其濾波電容要達(dá)0.1F以上。隨著頻率的提高，所需電容量減小。
可控硅利用改變可控硅管導(dǎo)通角來(lái)調(diào)整輸出平均直流大小的普通可控硅整流器，可控硅管輸出的是間斷脈沖波，其紋波系數(shù)的受導(dǎo)通角控制，輸出紋波系數(shù)大于普通硅整流電路。特別是在使用電流低于額定電流較大的情況下，輸出波形脈動(dòng)系數(shù)更大。

1.1.2.整流元件類(lèi)型
整流元件即通常所說(shuō)的二極管。由于整流器所有的輸出電流都要經(jīng)過(guò)整流元件，因此，可以說(shuō)是整流器的心臟。整流元件分為硅整流元件和可控硅整流元件二種。鍍鉻整流器主要使用硅整流元件。雖然可控硅技術(shù)已有了長(zhǎng)足的發(fā)展，且在電鍍上應(yīng)用也日趨增多，但筆者還是推薦使用硅整流器。其原因主要是波形問(wèn)題。可控硅整流是采用控制整流元件導(dǎo)通時(shí)間與截止時(shí)間長(zhǎng)短來(lái)控制電流的。整流器滿負(fù)荷使用時(shí)波形好。但輸出電流較小時(shí)電流波形變差。電流越小，波形越差。而硅整流器輸出電流大小對(duì)波形幾乎無(wú)影響。

電拋光時(shí),電流在作為陽(yáng)極的金屬制品表面流過(guò),將會(huì)在表面上形成氧化膜、鹽膜或氧的吸附層等，使陽(yáng)極的金屬溶解速率急劇下降，即處于鈍化狀態(tài)。但這種鈍化膜層又有可能在電解液中溶解，而使陽(yáng)極重新活化。在某一電流密度下，金屬鈍化與金屬溶解在交替地進(jìn)行著。金屬表面上凸起部分鈍化的穩(wěn)定性低于凹陷部分，溶解速率較高。于是凹陷部分受到保護(hù)，而凸起部分優(yōu)先溶解，遂對(duì)金屬制品表面起到了整平與出光的作用。不過(guò)電拋光理論仍然是不夠成熟的。
電拋光用的陰極只起傳遞電流的作用。對(duì)陰極材料的主要要求是它們?cè)陔娊庖褐械幕瘜W(xué)穩(wěn)定性好，使用壽命長(zhǎng)和導(dǎo)電能力強(qiáng)。常用鉛、銅、不銹鋼等作陰極。

注意事項(xiàng)
1、本拋光液在其使用初期會(huì)產(chǎn)生泡沫，因此拋光液液面與拋光槽頂部之間的距離不應(yīng)≥15cm；
2、 不銹鋼工件在進(jìn)入拋光槽之前應(yīng)盡可能將殘留在工件表面的水分除去，因工件夾帶過(guò)多水分有可能造成拋光面出現(xiàn)麻點(diǎn)，局部浸蝕而導(dǎo)致工件報(bào)廢；
3、在電解拋光過(guò)程中，作為陽(yáng)極的不銹鋼配件，因其所含的鐵、鉻元素不斷轉(zhuǎn)變?yōu)榻饘匐x子溶入拋光液內(nèi)而不在陰極表面沉積。隨著化學(xué)反應(yīng)的進(jìn)行，金屬離子濃度會(huì)不斷增加，當(dāng)達(dá)到一定濃度后，這些金屬離子以磷酸鹽和硫酸鹽形式從拋光液內(nèi)沉淀析出，沉降于拋光槽底部。因此拋光液必須定期過(guò)濾，去除這些固體沉淀物；
4、在拋光槽反應(yīng)過(guò)程中，除磷酸、硫酸不斷消耗外，水分因蒸發(fā)和電解而損失，此外，高粘度拋光液不斷被工件夾帶損失，拋光液液面不斷下降，需經(jīng)常往拋光槽補(bǔ)加拋光液和水；
5、本產(chǎn)品中和后排放符合當(dāng)今環(huán)保要求

優(yōu)點(diǎn)
電解拋光優(yōu)點(diǎn)
⑴內(nèi)外色澤一致，光澤持久，機(jī)械拋光無(wú)法拋到的凹處也能整平。
⑵生產(chǎn)效率高，成本低廉。
⑶增加工件表面抗腐蝕性

陰極面積/陽(yáng)極面積 1.5：1  影響氧化膜質(zhì)量的因素主要有：

①硫酸濃度：通常采用15%～20%。濃度升高，膜的溶解速度加大，膜的生長(zhǎng)速度降低，膜的孔隙率高，吸附力強(qiáng)，富有彈性，染色性好（易于染深色），但硬度，耐磨性略差；而降低硫酸濃度，則氧化膜生長(zhǎng)速度加快，膜的孔隙少，硬度高，耐磨性好。

所以，用于防護(hù)，裝飾及純裝飾加工時(shí)，多使用允許濃度的上限，即20%濃度的硫酸做電解液。

②電解液溫度：電解液溫度對(duì)氧化膜質(zhì)量影響很大。溫度升高，膜的溶解速度加大，膜厚降低。當(dāng)溫度為22～30℃時(shí)，所得到的膜是柔軟的，吸附能力好，但耐磨性相當(dāng)差；當(dāng)溫度大于30℃時(shí)，膜就變得疏松且不均勻，有時(shí)甚至不連續(xù)，且硬度低，因而失去使用價(jià)值；當(dāng)溫度在10～20℃之間時(shí)，所生成的氧化膜多孔，吸附能力強(qiáng)，并富有彈性，適宜染色，但膜的硬度低，耐磨性差；當(dāng)溫度低于10℃，氧化膜的厚度增大，硬度高，耐磨性好，但孔隙率較低。因此，生產(chǎn)時(shí)必須嚴(yán)格控制電解液的溫度。要制取厚而硬的氧化膜時(shí)，必須降低操作溫度，在氧化過(guò)程中采用壓縮空氣攪拌和比較低的溫度，通常在零度左右進(jìn)行硬質(zhì)氧化。

③電流密度：在一定限度內(nèi)，電流密度升高，膜生長(zhǎng)速度升高，氧化時(shí)間縮短，生成膜的孔隙多，易于著色，且硬度和耐磨性升高；電流密度過(guò)高，則會(huì)因焦耳熱的影響，使零件表面過(guò)熱和局部溶液溫度升高，膜的溶解速度升高，且有燒毀零件的可能；電流密度過(guò)低，則膜生長(zhǎng)速度緩慢，但生成的膜較致密，硬度和耐磨性降低。

④氧化時(shí)間：氧化時(shí)間的選擇，取決于電解液濃度，溫度，陽(yáng)極電流密度和所需要的膜厚。相同條件下,當(dāng)電流密度恒定時(shí),膜的生長(zhǎng)速度與氧化時(shí)間成正比；但當(dāng)膜生長(zhǎng)到一定厚度時(shí),由于膜電阻升高,影響導(dǎo)電能力,而且由于溫升,膜的溶解速度增大，所以膜的生長(zhǎng)速度會(huì)逐漸降低，到后不再增加。

⑤攪拌和移動(dòng)：可促使電解液對(duì)流,強(qiáng)化冷卻效果，保證溶液溫度的均勻性，不會(huì)造成因金屬局部升溫而導(dǎo)致氧化膜的質(zhì)量下降。

⑥電解液中的雜質(zhì)：在鋁陽(yáng)極氧化所用電解液中可能存在的雜質(zhì)有Clˉ,Fˉ,NO3ˉ,Cu2+,Al3+,Fe2+等。其中 Clˉ,Fˉ,NO3ˉ使膜的孔隙率增加,表面粗糙和疏松。若其含量超過(guò)極限值,甚至?xí)怪萍l(fā)生腐蝕穿孔（Clˉ應(yīng)小于0.05g/L,Fˉ應(yīng)小于0.01g/L）；當(dāng)電解液中Al3+含量超過(guò)一定值時(shí)，往往使工件表面出現(xiàn)白點(diǎn)或斑狀白塊,并使膜的吸附性能下降,染色困難（Al3+應(yīng)小于20g/L）；當(dāng)Cu2+含量達(dá)0.02g/L時(shí)，氧化膜上會(huì)出現(xiàn)暗色條紋或黑色斑點(diǎn)；Si2+ 常以懸浮狀態(tài)存在于電解液中,使電解液微量混濁,以褐色粉狀物吸附于膜上。

⑦鋁合金成分：一般來(lái)說(shuō),鋁金屬中的其它元素使膜的質(zhì)量下降，且得到的氧化膜沒(méi)有純鋁上得到的厚,硬度也低，不同成分的鋁合金,在進(jìn)行陽(yáng)極氧化處理時(shí)要注意不能同槽進(jìn)行。
隨著鋁制品加工的發(fā)展，鋁制品表面處理的代表-陽(yáng)極氧化越來(lái)越受到行業(yè)的關(guān)注。如蘋(píng)果推出的Iphone 6S：通過(guò)表面陽(yáng)極氧化處理，既能得到很高的硬度，又能得到天空灰、玫瑰金等效果。

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