亮度等級
目測法，將拋光后零件 表面的光亮度分為5級：
1級：表面有白色氧化膜，無光亮度；
2級：略有光亮，看不清輪廓；
3級：光亮度較好，能看出輪廓；
4級：表面光亮 ，較清晰地看出輪廓 (相當于電化學拋光的表面質(zhì)量)；
5級：鏡面般光亮。
注意事項
研磨操作中用砂紙或砂帶進行的研磨基本上屬于磨光切割操作，在鋼板表面留下很細的紋路。
在用氧化鋁作為磨料時曾遇到過麻煩，其部分原因是壓力問題。
設(shè)備的任何研磨部件，如：砂帶和磨輪等，使用前絕不能用于其它非不銹鋼材料。因為這樣會污染不銹鋼表面。
為了保證表面加工的一致性，新砂輪或砂帶應先在成分相同的廢料上試用，以便同樣品進行比較。
可控硅整流器
高頻開關(guān)電源
● 效率
70%左右
90%
● 變壓器
有工頻變壓器，體積特別大，重量200kg
無工頻變壓器，有高頻變壓器，重量30kg
● 受控器件
可控SCR
IGBT
● 節(jié)能效率
差
節(jié)能明顯，與普通可控硅比可節(jié)省電15%-30%
● 帶載啟停
不允許
允許
● 控制電路
復雜，有同步要求，不易集成
簡單采用專用集成板電路，并做過防腐處理，完全密封
● 穩(wěn)流精度
﹤5%
﹤1%
● 冷卻方式
水冷/風冷
風冷/水冷
● 穩(wěn)壓精度
﹤5%
﹤1%
● 功率因素
0-0.9可變
全范圍可達0.9以上
● 工作頻率
50HZ
20KHZ
● 控制方式
移相觸發(fā)
PWM調(diào)制
● 輸出直流
半波
高密度直流方波
● 對電網(wǎng)干擾
大，且不易消除
很小，易消除
● 調(diào)節(jié)影響速度
一般
極快
● 體積及整機重量
體積大，整機重量重
體積小，整機重量輕。只有普通可控硅的1/5
●輸入電壓允許波動范圍
±10%
±15%
高頻開關(guān)電源安裝應注意什么？
為獲得良好的拋光效果，電流密度和電壓是緊密相關(guān)的。通常,電壓升高電流密度隨之增大，但這一現(xiàn)象只會繼續(xù)到一個臨界點。一旦達到這一點，電流密度將急速下降，電壓仍相應增高，超過這一點，電壓和電流密度又穩(wěn)步增長。電拋光只有在電流密度比臨界點高時才會發(fā)生，低于這一點則出現(xiàn)腐蝕。通常電拋光使用直流電，在5.5一55.SA/dm2產(chǎn)生。
電地光對金屬的溶解極少，從奧拋光后的表面猜飾情況及拋光后的表面精飾處理來看，拋光厚度通常在2.5~65μm之間。深劃痕、沖壓記號及金屬中的非金屬夾雜物往往比電拋光失去的厚度深，雜亂的顆粒線和深深的劃痕(由粗研磨所致)，在其后的精加工中不能被去除。而電拋光可將它們?nèi)コ@些線和刻痕初是肉眼看不見的。電拋光是一項較快的操作，通常在2~12分鐘內(nèi)完成。但如果從粗糙表面開始或必須去除較大量的金屬(如控制尺寸或去毛刺)，則將會需要更長的時間。
陰極面積/陽極面積 1.5：1 影響氧化膜質(zhì)量的因素主要有：
①硫酸濃度：通常采用15%～20%。濃度升高，膜的溶解速度加大，膜的生長速度降低，膜的孔隙率高，吸附力強，富有彈性，染色性好（易于染深色），但硬度，耐磨性略差；而降低硫酸濃度，則氧化膜生長速度加快，膜的孔隙少，硬度高，耐磨性好。
所以，用于防護，裝飾及純裝飾加工時，多使用允許濃度的上限，即20%濃度的硫酸做電解液。
②電解液溫度：電解液溫度對氧化膜質(zhì)量影響很大。溫度升高，膜的溶解速度加大，膜厚降低。當溫度為22～30℃時，所得到的膜是柔軟的，吸附能力好，但耐磨性相當差；當溫度大于30℃時，膜就變得疏松且不均勻，有時甚至不連續(xù)，且硬度低，因而失去使用價值；當溫度在10～20℃之間時，所生成的氧化膜多孔，吸附能力強，并富有彈性，適宜染色，但膜的硬度低，耐磨性差；當溫度低于10℃，氧化膜的厚度增大，硬度高，耐磨性好，但孔隙率較低。因此，生產(chǎn)時必須嚴格控制電解液的溫度。要制取厚而硬的氧化膜時，必須降低操作溫度，在氧化過程中采用壓縮空氣攪拌和比較低的溫度，通常在零度左右進行硬質(zhì)氧化。
③電流密度：在一定限度內(nèi)，電流密度升高，膜生長速度升高，氧化時間縮短，生成膜的孔隙多，易于著色，且硬度和耐磨性升高；電流密度過高，則會因焦耳熱的影響，使零件表面過熱和局部溶液溫度升高，膜的溶解速度升高，且有燒毀零件的可能；電流密度過低，則膜生長速度緩慢，但生成的膜較致密，硬度和耐磨性降低。
④氧化時間：氧化時間的選擇，取決于電解液濃度，溫度，陽極電流密度和所需要的膜厚。相同條件下,當電流密度恒定時,膜的生長速度與氧化時間成正比；但當膜生長到一定厚度時,由于膜電阻升高,影響導電能力,而且由于溫升,膜的溶解速度增大，所以膜的生長速度會逐漸降低，到后不再增加。
⑤攪拌和移動：可促使電解液對流,強化冷卻效果，保證溶液溫度的均勻性，不會造成因金屬局部升溫而導致氧化膜的質(zhì)量下降。
⑥電解液中的雜質(zhì)：在鋁陽極氧化所用電解液中可能存在的雜質(zhì)有Clˉ,Fˉ,NO3ˉ,Cu2+,Al3+,Fe2+等。其中 Clˉ,Fˉ,NO3ˉ使膜的孔隙率增加,表面粗糙和疏松。若其含量超過極限值,甚至會使制件發(fā)生腐蝕穿孔（Clˉ應小于0.05g/L,Fˉ應小于0.01g/L）；當電解液中Al3+含量超過一定值時，往往使工件表面出現(xiàn)白點或斑狀白塊,并使膜的吸附性能下降,染色困難（Al3+應小于20g/L）；當Cu2+含量達0.02g/L時，氧化膜上會出現(xiàn)暗色條紋或黑色斑點；Si2+ 常以懸浮狀態(tài)存在于電解液中,使電解液微量混濁,以褐色粉狀物吸附于膜上。
⑦鋁合金成分：一般來說,鋁金屬中的其它元素使膜的質(zhì)量下降，且得到的氧化膜沒有純鋁上得到的厚,硬度也低，不同成分的鋁合金,在進行陽極氧化處理時要注意不能同槽進行。
隨著鋁制品加工的發(fā)展，鋁制品表面處理的代表-陽極氧化越來越受到行業(yè)的關(guān)注。如蘋果推出的Iphone 6S：通過表面陽極氧化處理，既能得到很高的硬度，又能得到天空灰、玫瑰金等效果。
