二）、槽液的要求及控制：
1、槽液的成份及工藝條件：
CrO3: 240-260g/l
H2SO4: 2.4-3.0g/l
Cr3+: 2.2-2.8g/l 
溫度： 50-55℃
陰極電流密度： 25-35A/dm2
S陰極面積:S陽極面積 1:2.5-3
2、每周對槽液進(jìn)行兩次分析，控制槽液在工藝范圍內(nèi)。
3、根據(jù)化驗(yàn)結(jié)果補(bǔ)加材料，要求溶解好后加入鍍槽中，并做好記錄。

三）、設(shè)備的要求：
1、電源：對直流電源應(yīng)發(fā)揮其應(yīng)有效率，一般的利用率不低于65%、不高于85%。波紋系數(shù)不高于5%。
2、銅排、陰陽極桿應(yīng)根據(jù)電源的要求配制，以免在生產(chǎn)過程中發(fā)熱，損失電能，使電流不能有效輸出。
3、陽極：陽極面積應(yīng)是陰極的2.5-3倍，在實(shí)際生產(chǎn)中以掛滿為標(biāo)準(zhǔn)。
4、掛具：掛具應(yīng)根據(jù)產(chǎn)品的不同而設(shè)計，總的原則是導(dǎo)電好。
5、槽體：溶液體積大一點(diǎn)，成份變化小，同時可適應(yīng)大工件操作。
 
四）、操作要求：
1、做好半成品毛坯的檢查，對不合格的毛坯能修復(fù)的做好修復(fù)工作，不能修復(fù)的另行處理。
2、經(jīng)檢驗(yàn)合格的毛坯按公差大小分類，轉(zhuǎn)入下一道工序。
3、按電鍍硬鉻的工藝流程進(jìn)行操作。

五）、電鍍注意事項：
1、毛坯前處理應(yīng)干凈。
2、毛坯在槽液中預(yù)熱應(yīng)充分，工件溫度應(yīng)接近槽液溫度。
3、電鍍過程中溫度變化應(yīng)控制在±2℃范圍內(nèi)。
4、鍍鉻零件進(jìn)入槽液內(nèi)離液面不應(yīng)低于50mm。

1.3.4 直流疊加功能。輸出正反向脈沖電流的同時，由同一臺電源疊加輸出一純直流成分，更拓寬了脈沖電源的使用范圍及用途。
近幾年來，國產(chǎn)多功能脈沖電源技術(shù)已趨于成熟，其中脈沖波形垂直程度，波形平穩(wěn)程度、穩(wěn)定性、抗干擾性等指標(biāo)達(dá)到甚至超過了國外水平。
直流電源波形對電鍍質(zhì)量有突出的影響，例如：高頻率定脈寬高頻穩(wěn)壓/穩(wěn)流脈沖電源電鍍時會產(chǎn)生特殊效應(yīng)，這也是普通直流電源電鍍無法達(dá)到的效果，有些現(xiàn)象還不能用常規(guī)電化學(xué)理論來加以解釋。而直流波形對電鍍沉積的影響目前還難以從理論上進(jìn)行預(yù)測，只能通過大量的試驗(yàn)來作相對比較，篩選出適宜的波形。

2 電鍍電源對電鍍工藝的影響
2.1 鍍鉻
各類電鍍工藝中，鍍鉻是受電源波形影響大的鍍種之一。鍍鉻必須采用低紋波直流電源，否則光亮范圍窄，鍍層易發(fā)花、發(fā)灰，這一點(diǎn)已為不少人認(rèn)同，但實(shí)踐中仍有因?qū)ζ湔J(rèn)識不足，往往由于紋波系數(shù)過大影響套鉻質(zhì)量而束手無策的事時有發(fā)生。因此，電鍍電源的選擇就更顯重要。
對于經(jīng)常使用反向電解的電鍍硬鉻生產(chǎn)，需要電源極性換向裝置。簡單的方法是使用手動換向開關(guān)。由于電流很大，開關(guān)通、斷時會形成較大的電火花，開關(guān)很容易損壞。將觸點(diǎn)浸入變壓器油中可以延長使用壽命。可控硅整流器實(shí)現(xiàn)換向比較容易，由于是無觸點(diǎn)換向，不會產(chǎn)生火花腐蝕。如電流變化不大時，可考慮使用可控硅極換向裝置。
電源波形對鍍鉻的影響較大。而且往往容易被操作者忽視。如某廠小件鍍裝飾鉻，覆蓋能力非常差，反復(fù)調(diào)整鍍液中硫酸與鉻酐的比值，仍無效。經(jīng)現(xiàn)場查驗(yàn)，采用1000A老式可控硅整流器，且平均電流僅200A左右，負(fù)荷率很低，顯然輸出紋波系數(shù)太大。換接一臺雙反星形輸出的硅整流器，鍍鉻即轉(zhuǎn)為正常。另有某廠鍍鉻上午生產(chǎn)正常，下午即出現(xiàn)裝飾鉻局部發(fā)灰，無法生產(chǎn)，懷疑鍍液故障，反復(fù)加硫酸、碳酸鋇調(diào)整一兩天，均無法解決。分析原因，鍍液成分不可能突變，懷疑硅整流管有損壞造成波形殘缺而增大紋波。用鉗形電流表測定各整流管電流，發(fā)現(xiàn)斷路2支，更換新管后，故障消除。
鍍微裂紋硬鉻，輸出紋波過大時，裂紋不細(xì)密且分布不均勻。
采用脈沖電鍍鉻，也可得到優(yōu)良的鍍層。研究表明，當(dāng)采用工藝條件為：頻率1000Hz，占空比通：斷=1/5，平均電流密度40A/dm2，30度溫度，獲得的鍍鉻層耐磨性提高三倍;耐腐蝕性提高5倍。
2.2 光亮酸性鍍銅
一般情況下，光亮鍍銅都有一個規(guī)律：從赫爾槽試片上看，陰極電流密度越大的地方，鍍層光亮整平性越好;電流密度越低，光亮整平性越差。試圖擴(kuò)展低電流密度區(qū)光亮范圍，始終是電鍍工作者不斷追求的目標(biāo)。需要從光亮劑、工藝配方與工藝條件、設(shè)備等多方面入手。光亮酸性鍍銅是迄今光亮整平性好的鍍種之一。但在實(shí)踐中，采用同樣的配方、工藝條件，使用相同的光亮劑，得到的光亮整平性與光亮范圍，卻可能出現(xiàn)較大差異。究其原因，與所用直流電源輸出紋波系數(shù)大小有很大關(guān)系。據(jù)有關(guān)資料，二十多年前，國內(nèi)在開發(fā)MN系列光亮酸性鍍銅添加劑時就已證實(shí)。規(guī)律是：輸出紋波系數(shù)越小，鍍層光亮整平性越好，光亮電流密度范圍越寬。而且，紋波越小，光亮劑的用量也會越小。遺憾的是時至今日并未引起電鍍工藝技術(shù)人員的重視。

1、整流器的基本類型
硅整流器：硅整流器使用歷史長，技術(shù)成熟，目前是整流器主流產(chǎn)品。各種整流電路獲得的均是脈動直流電，不是純直流。為了比較脈動成份的多少，一般用紋波系數(shù)來表示，其數(shù)值越小，交流成份越少，越接近純直流。各種整流電路的波動系數(shù)不同。其由大到小的次序?yàn)椋喝喟氩ㄕ鳌⑷嗳蚴秸骰驇胶怆娍蛊鞯牧嚯p反星形整流。可控硅利用改變可控硅管導(dǎo)通角來調(diào)整輸出平均直流大小的普通可控硅整流器，可控硅管輸出的是間斷脈沖波，其紋波系數(shù)的受導(dǎo)通角控制，輸出紋波系數(shù)大于普通硅整流電路。

2、開關(guān)電源
開關(guān)電源兼有硅整流器的波形平滑性優(yōu)點(diǎn)及可控硅整流器的調(diào)壓方便的優(yōu)點(diǎn)，電流效率高體積小，數(shù)千安培至上萬安培的大功率開關(guān)電源已進(jìn)入生產(chǎn)實(shí)用階段。開關(guān)電源其頻率已達(dá)音頻，通過濾波實(shí)現(xiàn)低紋波輸出更為簡便易行。而且穩(wěn)流、穩(wěn)壓等功能更易實(shí)現(xiàn)。因此，開關(guān)電源是今后發(fā)展的方向。

3、脈沖電源設(shè)備
脈沖電源主要是由嵌入式單片計算機(jī)等進(jìn)行控制，因此，除實(shí)現(xiàn)脈沖輸出之外，一般具備多種控制功能。（1)自動穩(wěn)流穩(wěn)壓。傳統(tǒng)硅整流器電流或電壓無法自動穩(wěn)定，隨電網(wǎng)電壓的波動而波動。而脈沖電源則擁有高精度的自動調(diào)節(jié)功能，脈沖電源輸出電壓可以幾乎不變。脈沖電源的自動調(diào)節(jié)功能一般具有二種模式：一，恒電流限壓模式。二，恒電壓限流模式。（2) 多段式運(yùn)行模式。鋁陽極氧化或硬鉻電鍍時，往往需要進(jìn)行反向電解、大電流沖擊、階梯送電等操作。具有多段式運(yùn)行模式的脈沖電源則只需提前設(shè)定，生產(chǎn)時可自動按順序進(jìn)行自動調(diào)節(jié)。這一功能對硬鉻電鍍是非常有用的，每一段時間可在0～255秒內(nèi)調(diào)節(jié)設(shè)定。（3)雙向脈沖功能。正負(fù)脈沖頻率、占空比、正反向輸出時間均可獨(dú)立調(diào)節(jié)，使用靈活、方便。配合硬鉻電鍍工藝，可獲得不同物理性能的鍍層。（4) 直流疊加功能。輸出正反向脈沖電流的同時，由同一臺電源疊加輸出一純直流成分，更拓寬了脈沖電源的使用范圍及用途。

4、電鍍電源對電鍍工藝的影響
直流電源波形對電鍍質(zhì)量有突出的影響 各類電鍍工藝中，鍍鉻是受電源波形影響大的鍍種之一。鍍鉻必須采用低紋波直流電源，否則光亮范圍窄，鍍層易發(fā)花、發(fā)灰。在使用高效鍍硬鉻添加劑時，產(chǎn)生微裂紋鉻層，輸出紋波過大時，裂紋不細(xì)密且分布不均勻，達(dá)不到要求的裂紋數(shù)。
光亮鍍銅都有一個規(guī)律：從赫爾槽試片上看，陰極電流密度越大的地方，鍍層光亮整平性越好；電流密度越低，光亮整平性越差。試圖擴(kuò)展低電流密度區(qū)光亮范圍，同時降低高流密度區(qū)光亮度，光亮均勻好。在實(shí)踐中，采用同樣的配方、工藝條件，使用相同的光亮劑，得到的光亮整平性與光亮范圍，卻可能出現(xiàn)較大差異，這與所用直流電源輸出紋波系數(shù)大小有很大關(guān)系。
光亮鍍鎳對整流輸出紋波系數(shù)要求沒有鍍鉻和光亮酸性鍍銅那樣高，但也確實(shí)需要采用普通低紋波輸出直流電源，才能確保光亮鍍鎳層質(zhì)量，且能保證后續(xù)套鉻的質(zhì)量。
硫酸鹽光亮酸性鍍錫本身就是不易鍍好的鍍種，其原因是大生產(chǎn)中易引入雜質(zhì)且不好處理(包括四價錫離子)、允許溫度范圍窄，目前光亮劑多數(shù)不理想，該工藝也要求采用低紋波系數(shù)直流電源，否則會出現(xiàn)與光亮酸性鍍銅相類似的故障。
鍍液溫升問題：紋波系數(shù)大的直流電源及脈沖電源往往會加快溫升。紋波系數(shù)越大，其諧波分量也越大，能產(chǎn)生大量歐姆熱，加快了鍍液溫升，采用平滑直流有利于將低鍍槽溫度。

430不銹鋼圓棒：鐵素體不銹鋼，裝飾用，例如用于汽車飾品。良好的成型性，但耐溫性和抗腐蝕性要    差     不銹鋼化學(xué)拋光液又名不銹鋼電解拋光液，是多種電解拋光液的統(tǒng)稱，成分有磷酸、硫酸等多種化學(xué)助劑，主要用于不銹鋼工件的電解拋光以及對各種不銹鋼配件進(jìn)行酸洗除雜。  原液使用，鉛板做陰極（負(fù)極），工件做陽極（正極），60-65度，電流密度10-25安培/平方分米，電壓8—10伏，時間5-8分鐘。

注意事項   

1.拋光液在其使用初期電解拋光時會產(chǎn)生泡沫，因此拋光液液面與拋光槽頂部之間的距離不應(yīng)≤15cm，可以選用盛華力拓不銹鋼電解液，不起泡沫。

2. 不銹鋼工件在進(jìn)入拋光槽之前應(yīng)盡可能將殘留在工件表面的水分除去，因工件夾帶過多水分有可能造成拋光面出現(xiàn)嚴(yán)重麻點(diǎn)，局部浸蝕而導(dǎo)致工件報廢。   

3. 在電解拋光過程中，作為陽極的不銹鋼工件，其所含的鐵、鉻元素不斷轉(zhuǎn)變?yōu)榻饘匐x子溶入拋光液內(nèi)而不在陰極表面沉積。隨著拋光過程的進(jìn)行，金屬離子濃度不斷增加，當(dāng)達(dá)到一定數(shù)值后，這些金屬離子以磷酸鹽和硫酸鹽形式不斷從拋光液內(nèi)沉淀析出，沉降于拋光槽底部。為此，拋光液必須定期過濾，去除這些固體沉淀物，選用盛華力拓不銹鋼電解液，新工藝制造解決了沉淀類物質(zhì)過多的工藝。   

4. 在拋光槽運(yùn)行過程中，除磷酸、硫酸不斷消耗外水分因蒸發(fā)和電解而損失，此外，高粘度拋光液不斷被工件夾帶損失，拋光液液面不斷下降，需經(jīng)常往拋光槽補(bǔ)加新鮮拋光液和水    

5、中和后排放符合當(dāng)今環(huán)保要求。    

6、本品有腐蝕性，勿入眼、口，勿觸皮膚。如誤觸，立即用清水沖洗，嚴(yán)重者，按強(qiáng)酸燒傷就醫(yī)；  

7、密封陰涼處保存，長期有效。化學(xué)拋光溶液的基本組成包括腐蝕劑、氧化劑和水。腐蝕劑是主要成份，如果不銹鋼在溶液中溶解，拋光便不能進(jìn)行。氧化劑和添加劑可抑制過程，使反應(yīng)朝有利于拋光的方向進(jìn)行。水對溶液濃度起調(diào)節(jié)作用，便于反應(yīng)產(chǎn)物的擴(kuò)散。不銹鋼化學(xué)拋光能否順利進(jìn)行，取決于上述成分的合理配合。

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