陰極面積/陽極面積 1.5：1 影響氧化膜質(zhì)量的因素主要有：
①硫酸濃度：通常采用15%～20%。濃度升高，膜的溶解速度加大，膜的生長速度降低，膜的孔隙率高，吸附力強(qiáng)，富有彈性，染色性好（易于染深色），但硬度，耐磨性略差；而降低硫酸濃度，則氧化膜生長速度加快，膜的孔隙少，硬度高，耐磨性好。
所以，用于防護(hù)，裝飾及純裝飾加工時(shí)，多使用允許濃度的上限，即20%濃度的硫酸做電解液。
②電解液溫度：電解液溫度對氧化膜質(zhì)量影響很大。溫度升高，膜的溶解速度加大，膜厚降低。當(dāng)溫度為22～30℃時(shí)，所得到的膜是柔軟的，吸附能力好，但耐磨性相當(dāng)差；當(dāng)溫度大于30℃時(shí)，膜就變得疏松且不均勻，有時(shí)甚至不連續(xù)，且硬度低，因而失去使用價(jià)值；當(dāng)溫度在10～20℃之間時(shí)，所生成的氧化膜多孔，吸附能力強(qiáng)，并富有彈性，適宜染色，但膜的硬度低，耐磨性差；當(dāng)溫度低于10℃，氧化膜的厚度增大，硬度高，耐磨性好，但孔隙率較低。因此，生產(chǎn)時(shí)必須嚴(yán)格控制電解液的溫度。要制取厚而硬的氧化膜時(shí)，必須降低操作溫度，在氧化過程中采用壓縮空氣攪拌和比較低的溫度，通常在零度左右進(jìn)行硬質(zhì)氧化。
③電流密度：在一定限度內(nèi)，電流密度升高，膜生長速度升高，氧化時(shí)間縮短，生成膜的孔隙多，易于著色，且硬度和耐磨性升高；電流密度過高，則會(huì)因焦耳熱的影響，使零件表面過熱和局部溶液溫度升高，膜的溶解速度升高，且有燒毀零件的可能；電流密度過低，則膜生長速度緩慢，但生成的膜較致密，硬度和耐磨性降低。
④氧化時(shí)間：氧化時(shí)間的選擇，取決于電解液濃度，溫度，陽極電流密度和所需要的膜厚。相同條件下,當(dāng)電流密度恒定時(shí),膜的生長速度與氧化時(shí)間成正比；但當(dāng)膜生長到一定厚度時(shí),由于膜電阻升高,影響導(dǎo)電能力,而且由于溫升,膜的溶解速度增大，所以膜的生長速度會(huì)逐漸降低，到后不再增加。
⑤攪拌和移動(dòng)：可促使電解液對流,強(qiáng)化冷卻效果，保證溶液溫度的均勻性，不會(huì)造成因金屬局部升溫而導(dǎo)致氧化膜的質(zhì)量下降。
⑥電解液中的雜質(zhì)：在鋁陽極氧化所用電解液中可能存在的雜質(zhì)有Clˉ,Fˉ,NO3ˉ,Cu2+,Al3+,Fe2+等。其中 Clˉ,Fˉ,NO3ˉ使膜的孔隙率增加,表面粗糙和疏松。若其含量超過極限值,甚至?xí)怪萍l(fā)生腐蝕穿孔（Clˉ應(yīng)小于0.05g/L,Fˉ應(yīng)小于0.01g/L）；當(dāng)電解液中Al3+含量超過一定值時(shí)，往往使工件表面出現(xiàn)白點(diǎn)或斑狀白塊,并使膜的吸附性能下降,染色困難（Al3+應(yīng)小于20g/L）；當(dāng)Cu2+含量達(dá)0.02g/L時(shí)，氧化膜上會(huì)出現(xiàn)暗色條紋或黑色斑點(diǎn)；Si2+ 常以懸浮狀態(tài)存在于電解液中,使電解液微量混濁,以褐色粉狀物吸附于膜上。
⑦鋁合金成分：一般來說,鋁金屬中的其它元素使膜的質(zhì)量下降，且得到的氧化膜沒有純鋁上得到的厚,硬度也低，不同成分的鋁合金,在進(jìn)行陽極氧化處理時(shí)要注意不能同槽進(jìn)行。
隨著鋁制品加工的發(fā)展，鋁制品表面處理的代表-陽極氧化越來越受到行業(yè)的關(guān)注。如蘋果推出的Iphone 6S：通過表面陽極氧化處理，既能得到很高的硬度，又能得到天空灰、玫瑰金等效果。
電拋光時(shí),電流在作為陽極的金屬制品表面流過,將會(huì)在表面上形成氧化膜、鹽膜或氧的吸附層等，使陽極的金屬溶解速率急劇下降，即處于鈍化狀態(tài)。但這種鈍化膜層又有可能在電解液中溶解，而使陽極重新活化。在某一電流密度下，金屬鈍化與金屬溶解在交替地進(jìn)行著。金屬表面上凸起部分鈍化的穩(wěn)定性低于凹陷部分，溶解速率較高。于是凹陷部分受到保護(hù)，而凸起部分優(yōu)先溶解，遂對金屬制品表面起到了整平與出光的作用。不過電拋光理論仍然是不夠成熟的。
電拋光用的陰極只起傳遞電流的作用。對陰極材料的主要要求是它們在電解液中的化學(xué)穩(wěn)定性好，使用壽命長和導(dǎo)電能力強(qiáng)。常用鉛、銅、不銹鋼等作陰極。
電拋光的電解液通常都是以磷酸為主要成分，同時(shí)也需要加入一定的氧化劑(如硫酸、鉻酸酐等)。在不通電的情況下，電解液應(yīng)當(dāng)對被拋光的金屬?zèng)]有明顯的腐蝕作用。并要求電解液對陽極溶解產(chǎn)物的溶解度大，且容易被清除。此外要求電解液的穩(wěn)定性好、價(jià)廉和毒性低。根據(jù)需要也可向電解液中添加少量有機(jī)物（如甘油、纖維素等）作為緩蝕劑。使用高氯酸－乙酸電解液進(jìn)行電拋光，可獲得高光潔度的表面。但這種電解液不太穩(wěn)定，且有爆炸危險(xiǎn)，使用不便。這種電解液主要用于制備金相磨片。
電解拋光設(shè)備
承攬各類不銹鋼制品酸洗、鈍化加工業(yè)務(wù)。
酸洗鈍化一步完成，酸洗用于清除各類不銹鋼表面銹漬、氧化皮、焊斑等污物，然后鈍化劑對其再起到鈍化作用，用后金屬表面成銀白色，起到提高不銹鋼抗腐蝕能力的效果。
材料應(yīng)用范圍：
奧氏體不銹鋼（301、302、303、304（L）、316（L））、馬氏體不銹鋼（410、420、430、440）、201、202等。
以上使用水均為本公司自有配方，可針對不同材料，提供對應(yīng)的水加工，以達(dá)到好效果。
對于小型加工件，采取浸泡方式，大型工件，可以依據(jù)實(shí)際情況，采取噴淋及涂刷方式。
可進(jìn)行相關(guān)的中性鹽霧測試，可通過SGS認(rèn)證。
設(shè)備為鋁合金常規(guī)陽極氧化用手動(dòng)線。技術(shù)成熟，操作流程簡單，加工工藝穩(wěn)定。
1、整流器的基本類型
硅整流器：硅整流器使用歷史長，技術(shù)成熟，目前是整流器主流產(chǎn)品。各種整流電路獲得的均是脈動(dòng)直流電，不是純直流。為了比較脈動(dòng)成份的多少，一般用紋波系數(shù)來表示，其數(shù)值越小，交流成份越少，越接近純直流。各種整流電路的波動(dòng)系數(shù)不同。其由大到小的次序?yàn)椋喝喟氩ㄕ鳌⑷嗳蚴秸骰驇胶怆娍蛊鞯牧嚯p反星形整流。可控硅利用改變可控硅管導(dǎo)通角來調(diào)整輸出平均直流大小的普通可控硅整流器，可控硅管輸出的是間斷脈沖波，其紋波系數(shù)的受導(dǎo)通角控制，輸出紋波系數(shù)大于普通硅整流電路。
2、開關(guān)電源
開關(guān)電源兼有硅整流器的波形平滑性優(yōu)點(diǎn)及可控硅整流器的調(diào)壓方便的優(yōu)點(diǎn)，電流效率高體積小，數(shù)千安培至上萬安培的大功率開關(guān)電源已進(jìn)入生產(chǎn)實(shí)用階段。開關(guān)電源其頻率已達(dá)音頻，通過濾波實(shí)現(xiàn)低紋波輸出更為簡便易行。而且穩(wěn)流、穩(wěn)壓等功能更易實(shí)現(xiàn)。因此，開關(guān)電源是今后發(fā)展的方向。
3、脈沖電源設(shè)備
脈沖電源主要是由嵌入式單片計(jì)算機(jī)等進(jìn)行控制，因此，除實(shí)現(xiàn)脈沖輸出之外，一般具備多種控制功能。（1)自動(dòng)穩(wěn)流穩(wěn)壓。傳統(tǒng)硅整流器電流或電壓無法自動(dòng)穩(wěn)定，隨電網(wǎng)電壓的波動(dòng)而波動(dòng)。而脈沖電源則擁有高精度的自動(dòng)調(diào)節(jié)功能，脈沖電源輸出電壓可以幾乎不變。脈沖電源的自動(dòng)調(diào)節(jié)功能一般具有二種模式：一，恒電流限壓模式。二，恒電壓限流模式。（2) 多段式運(yùn)行模式。鋁陽極氧化或硬鉻電鍍時(shí)，往往需要進(jìn)行反向電解、大電流沖擊、階梯送電等操作。具有多段式運(yùn)行模式的脈沖電源則只需提前設(shè)定，生產(chǎn)時(shí)可自動(dòng)按順序進(jìn)行自動(dòng)調(diào)節(jié)。這一功能對硬鉻電鍍是非常有用的，每一段時(shí)間可在0～255秒內(nèi)調(diào)節(jié)設(shè)定。（3)雙向脈沖功能。正負(fù)脈沖頻率、占空比、正反向輸出時(shí)間均可獨(dú)立調(diào)節(jié)，使用靈活、方便。配合硬鉻電鍍工藝，可獲得不同物理性能的鍍層。（4) 直流疊加功能。輸出正反向脈沖電流的同時(shí)，由同一臺(tái)電源疊加輸出一純直流成分，更拓寬了脈沖電源的使用范圍及用途。
