亮度等級(jí)
目測法，將拋光后零件 表面的光亮度分為5級(jí)：
1級(jí)：表面有白色氧化膜，無光亮度；
2級(jí)：略有光亮，看不清輪廓；
3級(jí)：光亮度較好，能看出輪廓；
4級(jí)：表面光亮 ，較清晰地看出輪廓 (相當(dāng)于電化學(xué)拋光的表面質(zhì)量)；
5級(jí)：鏡面般光亮。
注意事項(xiàng)
研磨操作中用砂紙或砂帶進(jìn)行的研磨基本上屬于磨光切割操作，在鋼板表面留下很細(xì)的紋路。
在用氧化鋁作為磨料時(shí)曾遇到過麻煩，其部分原因是壓力問題。
設(shè)備的任何研磨部件，如：砂帶和磨輪等，使用前絕不能用于其它非不銹鋼材料。因?yàn)檫@樣會(huì)污染不銹鋼表面。
為了保證表面加工的一致性，新砂輪或砂帶應(yīng)先在成分相同的廢料上試用，以便同樣品進(jìn)行比較。

電化學(xué)拋光也稱電解拋光。電解拋光是以被拋工件為陽極，不溶性金屬為陰極，兩極同時(shí)浸入到電解槽中，通以直流電而產(chǎn)生有選擇性的陽極溶解，從而使工件表面光亮度增大，達(dá)到鏡面效果。

原理
電解拋光原理薄，凹處較厚，因凸起處電流密度高而溶解快，全球各界人士爭論很多，被大家公認(rèn)的主要有黏膜理論。該理論主要為：工件上脫離的金屬離子與拋光液中的磷酸形成一層磷酸鹽膜吸附在工件表面，這種黏膜在凸起處較隨黏膜流動(dòng)，凹凸不斷變化，以使工件粗糙表面逐漸被整平的過程

設(shè)備
（1）電源：電源可選用雙相220V，三相380V。
（2）整流器電解拋光對(duì)電源波形要求不是太嚴(yán)格，可選用可控硅整流器好高頻整流器。
①整流器空載電壓：0—20v②負(fù)載電壓（工作電壓）：8—10v注：工作電壓低于6v，拋光速度慢，光亮度不足。整流器電流：根據(jù)客戶工件大小而定。
（3）電解槽及配套設(shè)施（陽極棒）
在槽上裝三根電極棒，中間為可移動(dòng)的陽極棒，接電源陽極（或正極），兩側(cè)為陰極棒，連接電源陰極（負(fù)極）。
（4）加熱設(shè)施及冷卻設(shè)備
①加熱可選用石英加熱管，鈦加熱管。②冷卻可選用盤管，盤管可加熱可冷卻。
（5）夾具
好選用鈦?zhàn)鰭炀撸驗(yàn)殁佪^耐腐蝕，壽命長，鈦離子對(duì)槽液無影響。好不要用銅掛具，因?yàn)殂~離子進(jìn)入會(huì)在不銹鋼表面沉積一層結(jié)合力不好的銅層，影響拋光質(zhì)量。銅裸露部位可用聚氯乙烯膠烘烤成膜，在接觸點(diǎn)刮去絕緣膜。
（6）陰陽極材料
陰陽極棒應(yīng)用銅棒或銅管，銅管比電解槽長20厘米，陰極板應(yīng)用合金鉛板，合金鉛板固定在陰極棒上，合金鉛板長為槽高加10厘米，鉛板寬根據(jù)槽長而定，一般為10厘米，20厘米。

陰極面積/陽極面積 1.5：1  影響氧化膜質(zhì)量的因素主要有：

①硫酸濃度：通常采用15%～20%。濃度升高，膜的溶解速度加大，膜的生長速度降低，膜的孔隙率高，吸附力強(qiáng)，富有彈性，染色性好（易于染深色），但硬度，耐磨性略差；而降低硫酸濃度，則氧化膜生長速度加快，膜的孔隙少，硬度高，耐磨性好。

所以，用于防護(hù)，裝飾及純裝飾加工時(shí)，多使用允許濃度的上限，即20%濃度的硫酸做電解液。

②電解液溫度：電解液溫度對(duì)氧化膜質(zhì)量影響很大。溫度升高，膜的溶解速度加大，膜厚降低。當(dāng)溫度為22～30℃時(shí)，所得到的膜是柔軟的，吸附能力好，但耐磨性相當(dāng)差；當(dāng)溫度大于30℃時(shí)，膜就變得疏松且不均勻，有時(shí)甚至不連續(xù)，且硬度低，因而失去使用價(jià)值；當(dāng)溫度在10～20℃之間時(shí)，所生成的氧化膜多孔，吸附能力強(qiáng)，并富有彈性，適宜染色，但膜的硬度低，耐磨性差；當(dāng)溫度低于10℃，氧化膜的厚度增大，硬度高，耐磨性好，但孔隙率較低。因此，生產(chǎn)時(shí)必須嚴(yán)格控制電解液的溫度。要制取厚而硬的氧化膜時(shí)，必須降低操作溫度，在氧化過程中采用壓縮空氣攪拌和比較低的溫度，通常在零度左右進(jìn)行硬質(zhì)氧化。

③電流密度：在一定限度內(nèi)，電流密度升高，膜生長速度升高，氧化時(shí)間縮短，生成膜的孔隙多，易于著色，且硬度和耐磨性升高；電流密度過高，則會(huì)因焦耳熱的影響，使零件表面過熱和局部溶液溫度升高，膜的溶解速度升高，且有燒毀零件的可能；電流密度過低，則膜生長速度緩慢，但生成的膜較致密，硬度和耐磨性降低。

④氧化時(shí)間：氧化時(shí)間的選擇，取決于電解液濃度，溫度，陽極電流密度和所需要的膜厚。相同條件下,當(dāng)電流密度恒定時(shí),膜的生長速度與氧化時(shí)間成正比；但當(dāng)膜生長到一定厚度時(shí),由于膜電阻升高,影響導(dǎo)電能力,而且由于溫升,膜的溶解速度增大，所以膜的生長速度會(huì)逐漸降低，到后不再增加。

⑤攪拌和移動(dòng)：可促使電解液對(duì)流,強(qiáng)化冷卻效果，保證溶液溫度的均勻性，不會(huì)造成因金屬局部升溫而導(dǎo)致氧化膜的質(zhì)量下降。

⑥電解液中的雜質(zhì)：在鋁陽極氧化所用電解液中可能存在的雜質(zhì)有Clˉ,Fˉ,NO3ˉ,Cu2+,Al3+,Fe2+等。其中 Clˉ,Fˉ,NO3ˉ使膜的孔隙率增加,表面粗糙和疏松。若其含量超過極限值,甚至?xí)怪萍l(fā)生腐蝕穿孔（Clˉ應(yīng)小于0.05g/L,Fˉ應(yīng)小于0.01g/L）；當(dāng)電解液中Al3+含量超過一定值時(shí)，往往使工件表面出現(xiàn)白點(diǎn)或斑狀白塊,并使膜的吸附性能下降,染色困難（Al3+應(yīng)小于20g/L）；當(dāng)Cu2+含量達(dá)0.02g/L時(shí)，氧化膜上會(huì)出現(xiàn)暗色條紋或黑色斑點(diǎn)；Si2+ 常以懸浮狀態(tài)存在于電解液中,使電解液微量混濁,以褐色粉狀物吸附于膜上。

⑦鋁合金成分：一般來說,鋁金屬中的其它元素使膜的質(zhì)量下降，且得到的氧化膜沒有純鋁上得到的厚,硬度也低，不同成分的鋁合金,在進(jìn)行陽極氧化處理時(shí)要注意不能同槽進(jìn)行。
隨著鋁制品加工的發(fā)展，鋁制品表面處理的代表-陽極氧化越來越受到行業(yè)的關(guān)注。如蘋果推出的Iphone 6S：通過表面陽極氧化處理，既能得到很高的硬度，又能得到天空灰、玫瑰金等效果。

1、整流器的基本類型

  硅整流器：硅整流器使用歷史長，技術(shù)成熟，目前是整流器主流產(chǎn)品。各種整流電路獲得的均是脈動(dòng)直流電，不是純直流。為了比較脈動(dòng)成份的多少，一般用紋波系數(shù)來表示，其數(shù)值越小，交流成份越少，越接近純直流。各種整流電路的波動(dòng)系數(shù)不同。其由大到小的次序?yàn)椋喝喟氩ㄕ鳌⑷嗳蚴秸骰驇胶怆娍蛊鞯牧嚯p反星形整流。可控硅利用改變可控硅管導(dǎo)通角來調(diào)整輸出平均直流大小的普通可控硅整流器，可控硅管輸出的是間斷脈沖波，其紋波系數(shù)的受導(dǎo)通角控制，輸出紋波系數(shù)大于普通硅整流電路。

  2、開關(guān)電源

  開關(guān)電源兼有硅整流器的波形平滑性優(yōu)點(diǎn)及可控硅整流器的調(diào)壓方便的優(yōu)點(diǎn)，電流效率高體積小，數(shù)千安培至上萬安培的大功率開關(guān)電源已進(jìn)入生產(chǎn)實(shí)用階段。開關(guān)電源其頻率已達(dá)音頻，通過濾波實(shí)現(xiàn)低紋波輸出更為簡便易行。而且穩(wěn)流、穩(wěn)壓等功能更易實(shí)現(xiàn)。因此，開關(guān)電源是今后發(fā)展的方向。

  3、脈沖電源設(shè)備

  脈沖電源主要是由嵌入式單片計(jì)算機(jī)等進(jìn)行控制，因此，除實(shí)現(xiàn)脈沖輸出之外，一般具備多種控制功能。（1)自動(dòng)穩(wěn)流穩(wěn)壓。傳統(tǒng)硅整流器電流或電壓無法自動(dòng)穩(wěn)定，隨電網(wǎng)電壓的波動(dòng)而波動(dòng)。而脈沖電源則擁有高精度的自動(dòng)調(diào)節(jié)功能，脈沖電源輸出電壓可以幾乎不變。脈沖電源的自動(dòng)調(diào)節(jié)功能一般具有二種模式：一，恒電流限壓模式。二，恒電壓限流模式。（2) 多段式運(yùn)行模式。鋁陽極氧化或硬鉻電鍍時(shí)，往往需要進(jìn)行反向電解、大電流沖擊、階梯送電等操作。具有多段式運(yùn)行模式的脈沖電源則只需提前設(shè)定，生產(chǎn)時(shí)可自動(dòng)按順序進(jìn)行自動(dòng)調(diào)節(jié)。這一功能對(duì)硬鉻電鍍是非常有用的，每一段時(shí)間可在0～255秒內(nèi)調(diào)節(jié)設(shè)定。（3)雙向脈沖功能。正負(fù)脈沖頻率、占空比、正反向輸出時(shí)間均可獨(dú)立調(diào)節(jié)，使用靈活、方便。配合硬鉻電鍍工藝，可獲得不同物理性能的鍍層。（4) 直流疊加功能。輸出正反向脈沖電流的同時(shí)，由同一臺(tái)電源疊加輸出一純直流成分，更拓寬了脈沖電源的使用范圍及用途。

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