13.電化學(xué)拋光液內(nèi)硫酸與磷酸之間有什么關(guān)系？
原因分析：硫酸較多，拋光速度過(guò)快，對(duì)金屬基體可加快腐蝕，磷酸較多，可在工件表面吸附一種黏膜，亮度下降，拋光速度變慢。當(dāng)然也不排除其他因素。
解決方法：調(diào)整硫酸磷酸合適比例。也可以選擇“云清各種無(wú)鉻電解添加劑”配方。
14.工件拋光后表面無(wú)光澤，在淺黃色底子上有白色斑點(diǎn)，一般什么原因引起的？
原因分析：可能是電解拋光溶液中鉻酐含量過(guò)高，甚至超過(guò)1.5%。
解決方法：鉻離子屬于重金屬離子，對(duì)人體有致癌作用，污染環(huán)境，可選用無(wú)鉻拋光液。推薦使用“長(zhǎng)程牌不銹鋼通用電解液”。
15.電解液成本核算主要是哪些？ 主要是電費(fèi)、電解液、整流器、電解槽、極板、銅棒、加熱管等。
16.不銹鋼各種材質(zhì)在電解拋光時(shí)電流密度是多少？與電解成本有什么關(guān)聯(lián)？
原因分析：在市場(chǎng)常規(guī)情況下不銹鋼各種材質(zhì)在電解液的密度為：200系列不銹鋼材質(zhì)電流密度在25—50安培之間，300系列不銹鋼材質(zhì)電流密度在15—30安培之間，400系列不銹鋼材質(zhì)電流密度在30—55安培之間。
解決方法：可選用“長(zhǎng)程牌不銹鋼通用電解液”200系列不銹鋼材質(zhì)電流密度在15—25安培之間，300系列不銹鋼材質(zhì)在10—15安培之間，400系列不銹鋼材質(zhì)在25—30之間。電流密度越大，耗電量越大。而在電解成本核算中，電費(fèi)所占的比例很大。
17.拋光后經(jīng)擦拭干凈扔無(wú)光澤，有淺蘭色陰影什么原因？
原因分析：可能是電化學(xué)拋光液配制后，未進(jìn)行加熱及通電處理，或溶液操作溫度偏低。
解決方案：120℃下加熱電拋光液一小時(shí)或?qū)㈦娊庖杭訜岬揭?guī)定溫度。
18.拋光后無(wú)光并且有黃色斑點(diǎn)是什么原因引起的？
原因分析：可能電化學(xué)溶液的相對(duì)密度偏小，已小于1.70。
解決方案：調(diào)整電拋光的相對(duì)密度或在80—100℃條件下加熱濃縮以增大起相對(duì)密度。或是更換新液。
19.工件拋光后，為什么從槽中取出就出現(xiàn)褐色斑點(diǎn)？
原因分析：可能是電拋光不夠，或是時(shí)間較短。
以金屬工件為陽(yáng)極，在適宜的電解液中進(jìn)行電解，有選擇地除去其粗糙面，提高表面光潔程度的技術(shù)，又稱(chēng)電解拋光。電拋光可增加不銹鋼的耐腐蝕性，減少電氣接觸點(diǎn)的電阻，制備金相磨片，提高照明燈具的反光性能，提高各種量具的精度，美化金屬日用品和工藝品等，適用于鋼鐵、鋁、銅、鎳及各種合金的拋光。
電拋光亦稱(chēng)電解拋光、 電化學(xué)拋光或陽(yáng)極拋光。借電解作用將金屬制 件進(jìn)行陽(yáng)極處理，以提高其表面光潔度的一種 方法。20世紀(jì)30年代產(chǎn)生的一種金屬表面精 加工的新方法，也是金屬制件鍍前預(yù)處理及鍍 后精加工的一種工藝。電拋光時(shí)將制件作陽(yáng) 極，鉛板作陰極，共置于電解液中，通直流電，在 特定工藝條件下制件表面的毛刺和凸起部分電 流密度較大，相應(yīng)的溶解速度也大。這種不均 勻性的溶解，使凸起部分溶解得快，因而起到了 平整拋光的作用。但過(guò)于粗糙的表面，不宜直 接進(jìn)行電拋光。為使制件表面達(dá)到高光潔度， 選擇適當(dāng)?shù)碾娊庖菏种匾Ｓ捎陔姃伖饫碚?尚不成熟，選擇電解液的方法在很大程度上依 靠經(jīng)驗(yàn)。用得較多的是電阻較低的電解液，如 磷酸、硫酸或兩者混合比不同的混合電解液。 在這類(lèi)電解液中如加入適量鉻酐(CrO3)可防 止被拋光金屬的腐蝕，并能增加拋光面的光潔 度。還可在電解液中加一些甘油、纖維素 等緩蝕劑。電拋光時(shí)選擇佳的工藝條件也非 常重要，如控制適當(dāng)?shù)碾娏髅芏取⑦m宜的溫度范 圍、合理的拋光時(shí)間以及采用往復(fù)式或上下式 移動(dòng)陽(yáng)極以攪拌電解液等。
1 整流器的基本原理及類(lèi)型
1.1 傳統(tǒng)硅整流器
硅整流器使用歷史長(zhǎng)，技術(shù)成熟，目前是整流器主流產(chǎn)品。
1.1.1 整流電路。工業(yè)生產(chǎn)中一般采用三相調(diào)壓器調(diào)壓，50Hz三相工頻變壓器降壓的普通硅整流器。各種整流電路獲得的均是脈動(dòng)直流電，不是純直流，或多或少地含有交流成分。為了比較脈動(dòng)成份的多少，可用紋波系數(shù)來(lái)表示，其含義為交流成份在直流成分中占的百分比，其數(shù)值越小，交流成份越少，越接近純直流。
各種整流電路的波動(dòng)系數(shù)不同。其由大到小的次序?yàn)椋喝喟氩ㄕ鳌⑷嗳蚴秸骰驇胶怆娍蛊鞯牧嚯p反星形整流。其中后者工作時(shí)整流元件并聯(lián)導(dǎo)通，波形為平滑，整流效率較高，工作也較為可靠，時(shí)為常用的一種。
為了獲得低紋波輸出，則必須采用濾波或其它特殊措施。利用電容、電感貯能元件進(jìn)行濾波，是將脈動(dòng)直流轉(zhuǎn)變?yōu)檩^為平滑的直流的常用措施。但實(shí)際生產(chǎn)中，除試驗(yàn)用的小型整流器之外，工業(yè)生產(chǎn)基本上不進(jìn)行濾波。特殊情況可使用大電感。電容在低電壓、大電流情況下不適用于濾波。電容濾波，對(duì)工頻整流只適合于非常小功率的整流電源。例如輸出10A的單相全波整流器，要達(dá)到低紋波輸出，其濾波電容要達(dá)0.1F以上。隨著頻率的提高，所需電容量減小。
可控硅利用改變可控硅管導(dǎo)通角來(lái)調(diào)整輸出平均直流大小的普通可控硅整流器，可控硅管輸出的是間斷脈沖波，其紋波系數(shù)的受導(dǎo)通角控制，輸出紋波系數(shù)大于普通硅整流電路。特別是在使用電流低于額定電流較大的情況下，輸出波形脈動(dòng)系數(shù)更大。
1.1.2.整流元件類(lèi)型
整流元件即通常所說(shuō)的二極管。由于整流器所有的輸出電流都要經(jīng)過(guò)整流元件，因此，可以說(shuō)是整流器的心臟。整流元件分為硅整流元件和可控硅整流元件二種。鍍鉻整流器主要使用硅整流元件。雖然可控硅技術(shù)已有了長(zhǎng)足的發(fā)展，且在電鍍上應(yīng)用也日趨增多，但筆者還是推薦使用硅整流器。其原因主要是波形問(wèn)題。可控硅整流是采用控制整流元件導(dǎo)通時(shí)間與截止時(shí)間長(zhǎng)短來(lái)控制電流的。整流器滿負(fù)荷使用時(shí)波形好。但輸出電流較小時(shí)電流波形變差。電流越小，波形越差。而硅整流器輸出電流大小對(duì)波形幾乎無(wú)影響。
一些以硫酸為基除灰的商品化除灰添加劑，大多添加一種或多種添加劑，如氧化劑等。
1.溶液的溫度與電壓的關(guān)系
在額定的范圍內(nèi)溶液的溫度越低，所需的電壓應(yīng)越高，因?yàn)槿芤簻囟容^低時(shí)氧化膜生成速度較緩慢，膜層較為致密，為獲得一定厚度的氧化膜，陽(yáng)極氧化過(guò)程需升高電壓。當(dāng)溶液的溫度較高時(shí)，氧化膜的溶解速度加塊，且生成的氧化膜是疏松的，此時(shí)降低電壓能適當(dāng)改善氧化膜的質(zhì)量。
2.陽(yáng)極氧化溶液溫度與時(shí)間的關(guān)系
溶液的溫度越低，所需的陽(yáng)極氧化時(shí)間應(yīng)越長(zhǎng)。因?yàn)槿芤簻囟容^低時(shí)氧化膜的生成速度緩慢。溶液的溫度升高時(shí)則氧化膜的生成速度加快。此時(shí)要縮短陽(yáng)極氧化時(shí)間，否則由于氧化膜的外層電阻加大而導(dǎo)致膜層溶解，出現(xiàn)工件尺寸的改變、表面粗糙掉膜的現(xiàn)象。
以上措施只是在既無(wú)降溫設(shè)備，又無(wú)加溫裝置的條件下采取的應(yīng)急措施。
二、染黑色溶液的配方與配制過(guò)程
1.配方及工藝條件
酸性毛元
ATT 20～30g/L
酸性湖藍(lán)
2～3g/L
溫度
50～70℃
時(shí)間
10～15min
PH值
3～3.5(或4.5～5.5)
2.配制方法
首先煮沸溶液，促使染料溶解完全，保證無(wú)疙瘩。待溶液冷卻后用濾紙過(guò)濾，濾去不溶物微粒及液面上漂浮的油狀物質(zhì)。后測(cè)量pH值，用冷醋酸或氨水調(diào)整至工藝要求。
