電拋光為金屬表面精加工的一種方法。它是以懸掛在電解槽中的金屬制品為陽極，于特定條件下電解，通過陽極金屬的溶解，以消除制品表面的細(xì)微不平，使之具有鏡面般光澤外觀的過程。常用這種方法提高鋁及其合金、碳鋼、不銹鋼以及其他有色金屬表面的光潔度，來滿足某些部件工作條件中的需要（例如需要降低表面的摩擦系數(shù)、要求精密的公差配合等）和改善金屬制品的裝飾性外觀。
電拋光還可以除去金屬表面上的某些機(jī)械損傷。與機(jī)械拋光相比，電拋光加工后的表面無應(yīng)力產(chǎn)生。但是，過于粗糙的表面，不宜于直接進(jìn)行電拋光。

電解時(shí)，一般說來，電解中的金屬陽極溶解往往使金屬表面變得更加粗糙。盡管有時(shí)表面能變得比較平整，但也難以使其表面達(dá)到光澤。因此，電拋光需要在一定成分的電解液中和特定的工藝條件（電流密度、溫度、拋光時(shí)間、對(duì)電解液的攪拌條件等）下進(jìn)行。而且對(duì)不同金屬材料的電拋光，所要求的電解液成分與工藝條件也明顯不同。

1、整流器的基本類型
硅整流器：硅整流器使用歷史長(zhǎng)，技術(shù)成熟，目前是整流器主流產(chǎn)品。各種整流電路獲得的均是脈動(dòng)直流電，不是純直流。為了比較脈動(dòng)成份的多少，一般用紋波系數(shù)來表示，其數(shù)值越小，交流成份越少，越接近純直流。各種整流電路的波動(dòng)系數(shù)不同。其由大到小的次序?yàn)椋喝喟氩ㄕ鳌⑷嗳蚴秸骰驇胶怆娍蛊鞯牧嚯p反星形整流。可控硅利用改變可控硅管導(dǎo)通角來調(diào)整輸出平均直流大小的普通可控硅整流器，可控硅管輸出的是間斷脈沖波，其紋波系數(shù)的受導(dǎo)通角控制，輸出紋波系數(shù)大于普通硅整流電路。

2、開關(guān)電源
開關(guān)電源兼有硅整流器的波形平滑性優(yōu)點(diǎn)及可控硅整流器的調(diào)壓方便的優(yōu)點(diǎn)，電流效率高體積小，數(shù)千安培至上萬安培的大功率開關(guān)電源已進(jìn)入生產(chǎn)實(shí)用階段。開關(guān)電源其頻率已達(dá)音頻，通過濾波實(shí)現(xiàn)低紋波輸出更為簡(jiǎn)便易行。而且穩(wěn)流、穩(wěn)壓等功能更易實(shí)現(xiàn)。因此，開關(guān)電源是今后發(fā)展的方向。

3、脈沖電源設(shè)備
脈沖電源主要是由嵌入式單片計(jì)算機(jī)等進(jìn)行控制，因此，除實(shí)現(xiàn)脈沖輸出之外，一般具備多種控制功能。（1)自動(dòng)穩(wěn)流穩(wěn)壓。傳統(tǒng)硅整流器電流或電壓無法自動(dòng)穩(wěn)定，隨電網(wǎng)電壓的波動(dòng)而波動(dòng)。而脈沖電源則擁有高精度的自動(dòng)調(diào)節(jié)功能，脈沖電源輸出電壓可以幾乎不變。脈沖電源的自動(dòng)調(diào)節(jié)功能一般具有二種模式：一，恒電流限壓模式。二，恒電壓限流模式。（2) 多段式運(yùn)行模式。鋁陽極氧化或硬鉻電鍍時(shí)，往往需要進(jìn)行反向電解、大電流沖擊、階梯送電等操作。具有多段式運(yùn)行模式的脈沖電源則只需提前設(shè)定，生產(chǎn)時(shí)可自動(dòng)按順序進(jìn)行自動(dòng)調(diào)節(jié)。這一功能對(duì)硬鉻電鍍是非常有用的，每一段時(shí)間可在0～255秒內(nèi)調(diào)節(jié)設(shè)定。（3)雙向脈沖功能。正負(fù)脈沖頻率、占空比、正反向輸出時(shí)間均可獨(dú)立調(diào)節(jié)，使用靈活、方便。配合硬鉻電鍍工藝，可獲得不同物理性能的鍍層。（4) 直流疊加功能。輸出正反向脈沖電流的同時(shí)，由同一臺(tái)電源疊加輸出一純直流成分，更拓寬了脈沖電源的使用范圍及用途。

4、電鍍電源對(duì)電鍍工藝的影響
直流電源波形對(duì)電鍍質(zhì)量有突出的影響 各類電鍍工藝中，鍍鉻是受電源波形影響大的鍍種之一。鍍鉻必須采用低紋波直流電源，否則光亮范圍窄，鍍層易發(fā)花、發(fā)灰。在使用高效鍍硬鉻添加劑時(shí)，產(chǎn)生微裂紋鉻層，輸出紋波過大時(shí)，裂紋不細(xì)密且分布不均勻，達(dá)不到要求的裂紋數(shù)。
光亮鍍銅都有一個(gè)規(guī)律：從赫爾槽試片上看，陰極電流密度越大的地方，鍍層光亮整平性越好；電流密度越低，光亮整平性越差。試圖擴(kuò)展低電流密度區(qū)光亮范圍，同時(shí)降低高流密度區(qū)光亮度，光亮均勻好。在實(shí)踐中，采用同樣的配方、工藝條件，使用相同的光亮劑，得到的光亮整平性與光亮范圍，卻可能出現(xiàn)較大差異，這與所用直流電源輸出紋波系數(shù)大小有很大關(guān)系。
光亮鍍鎳對(duì)整流輸出紋波系數(shù)要求沒有鍍鉻和光亮酸性鍍銅那樣高，但也確實(shí)需要采用普通低紋波輸出直流電源，才能確保光亮鍍鎳層質(zhì)量，且能保證后續(xù)套鉻的質(zhì)量。
硫酸鹽光亮酸性鍍錫本身就是不易鍍好的鍍種，其原因是大生產(chǎn)中易引入雜質(zhì)且不好處理(包括四價(jià)錫離子)、允許溫度范圍窄，目前光亮劑多數(shù)不理想，該工藝也要求采用低紋波系數(shù)直流電源，否則會(huì)出現(xiàn)與光亮酸性鍍銅相類似的故障。
鍍液溫升問題：紋波系數(shù)大的直流電源及脈沖電源往往會(huì)加快溫升。紋波系數(shù)越大，其諧波分量也越大，能產(chǎn)生大量歐姆熱，加快了鍍液溫升，采用平滑直流有利于將低鍍槽溫度。

430不銹鋼圓棒：鐵素體不銹鋼，裝飾用，例如用于汽車飾品。良好的成型性，但耐溫性和抗腐蝕性要    差     不銹鋼化學(xué)拋光液又名不銹鋼電解拋光液，是多種電解拋光液的統(tǒng)稱，成分有磷酸、硫酸等多種化學(xué)助劑，主要用于不銹鋼工件的電解拋光以及對(duì)各種不銹鋼配件進(jìn)行酸洗除雜。  原液使用，鉛板做陰極（負(fù)極），工件做陽極（正極），60-65度，電流密度10-25安培/平方分米，電壓8—10伏，時(shí)間5-8分鐘。

注意事項(xiàng)   

1.拋光液在其使用初期電解拋光時(shí)會(huì)產(chǎn)生泡沫，因此拋光液液面與拋光槽頂部之間的距離不應(yīng)≤15cm，可以選用盛華力拓不銹鋼電解液，不起泡沫。

2. 不銹鋼工件在進(jìn)入拋光槽之前應(yīng)盡可能將殘留在工件表面的水分除去，因工件夾帶過多水分有可能造成拋光面出現(xiàn)嚴(yán)重麻點(diǎn)，局部浸蝕而導(dǎo)致工件報(bào)廢。   

3. 在電解拋光過程中，作為陽極的不銹鋼工件，其所含的鐵、鉻元素不斷轉(zhuǎn)變?yōu)榻饘匐x子溶入拋光液內(nèi)而不在陰極表面沉積。隨著拋光過程的進(jìn)行，金屬離子濃度不斷增加，當(dāng)達(dá)到一定數(shù)值后，這些金屬離子以磷酸鹽和硫酸鹽形式不斷從拋光液內(nèi)沉淀析出，沉降于拋光槽底部。為此，拋光液必須定期過濾，去除這些固體沉淀物，選用盛華力拓不銹鋼電解液，新工藝制造解決了沉淀類物質(zhì)過多的工藝。   

4. 在拋光槽運(yùn)行過程中，除磷酸、硫酸不斷消耗外水分因蒸發(fā)和電解而損失，此外，高粘度拋光液不斷被工件夾帶損失，拋光液液面不斷下降，需經(jīng)常往拋光槽補(bǔ)加新鮮拋光液和水    

5、中和后排放符合當(dāng)今環(huán)保要求。    

6、本品有腐蝕性，勿入眼、口，勿觸皮膚。如誤觸，立即用清水沖洗，嚴(yán)重者，按強(qiáng)酸燒傷就醫(yī)；  

7、密封陰涼處保存，長(zhǎng)期有效。化學(xué)拋光溶液的基本組成包括腐蝕劑、氧化劑和水。腐蝕劑是主要成份，如果不銹鋼在溶液中溶解，拋光便不能進(jìn)行。氧化劑和添加劑可抑制過程，使反應(yīng)朝有利于拋光的方向進(jìn)行。水對(duì)溶液濃度起調(diào)節(jié)作用，便于反應(yīng)產(chǎn)物的擴(kuò)散。不銹鋼化學(xué)拋光能否順利進(jìn)行，取決于上述成分的合理配合。

1. 機(jī)械拋光
其長(zhǎng)處是加工后零件的整平性好,光明度高。其缺陷是勞動(dòng)強(qiáng)度大,污染嚴(yán)峻,而且龐雜零件無法加工,而且其光澤不能一致,光澤維持時(shí)間不長(zhǎng)，發(fā)悶、生銹。對(duì)比適宜加工簡(jiǎn)略件,中、小產(chǎn)品。
機(jī)械拋光是靠切削、材料外表塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到平滑面的拋光方式,一般運(yùn)用油石條、羊毛輪、砂紙等，以手工操作為主,特別零件如回轉(zhuǎn) 體外表,可運(yùn)用轉(zhuǎn)臺(tái)等輔佐工具,外表質(zhì)量要求高的可采取超精研拋的方式。超精研拋是采取特制的磨具,在含有磨料的研拋液中,緊壓在工件被加工外表上,作高 速旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)。利用該技術(shù)可以到達(dá) Ra0.008μm 的外表毛糙度,是各種拋光方式中高的。光學(xué)鏡片模具常采用這種方式。
2. 化學(xué)拋光
其長(zhǎng)處是加工設(shè)備投資少,龐雜件能拋,速度快,效率高,防腐性好。其缺陷是光明度差,有氣體溢出,須要通風(fēng)設(shè)備,加溫艱難。適宜加工小批量龐雜件及小零件光明度要求不高的產(chǎn)品。
化學(xué)拋光是讓材料在化學(xué)介質(zhì)中外表宏觀凸出的部分較凹部分優(yōu)先溶解,從而得到平滑面。這種方式的重要長(zhǎng)處是不需龐雜設(shè)備,可以拋光外形龐雜的工件,可以同時(shí)拋光很多工件,效率高。化學(xué)拋光的核心問題是拋光液的配制。化學(xué)拋光得到的外表毛糙度一般為數(shù)10μm。
3. 電解拋光
其長(zhǎng)處是鏡面光澤維持長(zhǎng),工藝穩(wěn)固,污染少,本錢低,防腐性好。其缺陷是防污染性高,加工設(shè)備一次性投資大,龐雜件要工裝、輔佐電極,大批生產(chǎn)還須要降溫設(shè)備。適宜批量生產(chǎn),重要應(yīng)用于高級(jí)產(chǎn)品,出口產(chǎn)品,有公差產(chǎn)品,其加工工藝穩(wěn)固,操作上也相對(duì)簡(jiǎn)略。
電解拋光根底原理與化學(xué)拋光雷同,即靠選擇性的溶解材料外表渺小凸出部分,使外表光滑。與化學(xué)拋光相比,可以清除陰極反映的影響,效果較好。

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