為獲得良好的拋光效果,電流密度和電壓是緊密相關的。通常,電壓升高電流密度隨之增大,但這一現象只會繼續到一個臨界點。一旦達到這一點,電流密度將急速下降,電壓仍相應增高,超過這一點,電壓和電流密度又穩步增長。電拋光只有在電流密度比臨界點高時才會發生,低于這一點則出現腐蝕。通常電拋光使用直流電,在5.5一55.SA/dm2產生。
電地光對金屬的溶解極少,從奧拋光后的表面猜飾情況及拋光后的表面精飾處理來看,拋光厚度通常在2.5~65μm之間。深劃痕、沖壓記號及金屬中的非金屬夾雜物往往比電拋光失去的厚度深,雜亂的顆粒線和深深的劃痕(由粗研磨所致),在其后的精加工中不能被去除。而電拋光可將它們去除,這些線和刻痕初是肉眼看不見的。電拋光是一項較快的操作,通常在2~12分鐘內完成。但如果從粗糙表面開始或必須去除較大量的金屬(如控制尺寸或去毛刺),則將會需要更長的時間。

1. 機械拋光
其長處是加工后零件的整平性好,光明度高。其缺陷是勞動強度大,污染嚴峻,而且龐雜零件無法加工,而且其光澤不能一致,光澤維持時間不長,發悶、生銹。對比適宜加工簡略件,中、小產品。
機械拋光是靠切削、材料外表塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到平滑面的拋光方式,一般運用油石條、羊毛輪、砂紙等,以手工操作為主,特別零件如回轉 體外表,可運用轉臺等輔佐工具,外表質量要求高的可采取超精研拋的方式。超精研拋是采取特制的磨具,在含有磨料的研拋液中,緊壓在工件被加工外表上,作高 速旋轉運動。利用該技術可以到達 Ra0.008μm 的外表毛糙度,是各種拋光方式中高的。光學鏡片模具常采用這種方式。
2. 化學拋光
其長處是加工設備投資少,龐雜件能拋,速度快,效率高,防腐性好。其缺陷是光明度差,有氣體溢出,須要通風設備,加溫艱難。適宜加工小批量龐雜件及小零件光明度要求不高的產品。
化學拋光是讓材料在化學介質中外表宏觀凸出的部分較凹部分優先溶解,從而得到平滑面。這種方式的重要長處是不需龐雜設備,可以拋光外形龐雜的工件,可以同時拋光很多工件,效率高。化學拋光的核心問題是拋光液的配制。化學拋光得到的外表毛糙度一般為數10μm。
3. 電解拋光
其長處是鏡面光澤維持長,工藝穩固,污染少,本錢低,防腐性好。其缺陷是防污染性高,加工設備一次性投資大,龐雜件要工裝、輔佐電極,大批生產還須要降溫設備。適宜批量生產,重要應用于高級產品,出口產品,有公差產品,其加工工藝穩固,操作上也相對簡略。
電解拋光根底原理與化學拋光雷同,即靠選擇性的溶解材料外表渺小凸出部分,使外表光滑。與化學拋光相比,可以清除陰極反映的影響,效果較好。

1、整流器的基本類型
硅整流器:硅整流器使用歷史長,技術成熟,目前是整流器主流產品。各種整流電路獲得的均是脈動直流電,不是純直流。為了比較脈動成份的多少,一般用紋波系數來表示,其數值越小,交流成份越少,越接近純直流。各種整流電路的波動系數不同。其由大到小的次序為:三相半波整流、三相全波橋式整流或帶平衡電抗器的六相雙反星形整流。可控硅利用改變可控硅管導通角來調整輸出平均直流大小的普通可控硅整流器,可控硅管輸出的是間斷脈沖波,其紋波系數的受導通角控制,輸出紋波系數大于普通硅整流電路。
2、開關電源
開關電源兼有硅整流器的波形平滑性優點及可控硅整流器的調壓方便的優點,電流效率高體積小,數千安培至上萬安培的大功率開關電源已進入生產實用階段。開關電源其頻率已達音頻,通過濾波實現低紋波輸出更為簡便易行。而且穩流、穩壓等功能更易實現。因此,開關電源是今后發展的方向。
3、脈沖電源設備
脈沖電源主要是由嵌入式單片計算機等進行控制,因此,除實現脈沖輸出之外,一般具備多種控制功能。(1)自動穩流穩壓。傳統硅整流器電流或電壓無法自動穩定,隨電網電壓的波動而波動。而脈沖電源則擁有高精度的自動調節功能,脈沖電源輸出電壓可以幾乎不變。脈沖電源的自動調節功能一般具有二種模式:一,恒電流限壓模式。二,恒電壓限流模式。(2) 多段式運行模式。鋁陽極氧化或硬鉻電鍍時,往往需要進行反向電解、大電流沖擊、階梯送電等操作。具有多段式運行模式的脈沖電源則只需提前設定,生產時可自動按順序進行自動調節。這一功能對硬鉻電鍍是非常有用的,每一段時間可在0~255秒內調節設定。(3)雙向脈沖功能。正負脈沖頻率、占空比、正反向輸出時間均可獨立調節,使用靈活、方便。配合硬鉻電鍍工藝,可獲得不同物理性能的鍍層。(4) 直流疊加功能。輸出正反向脈沖電流的同時,由同一臺電源疊加輸出一純直流成分,更拓寬了脈沖電源的使用范圍及用途。

二)、槽液的要求及控制:
1、槽液的成份及工藝條件:
CrO3: 240-260g/l
H2SO4: 2.4-3.0g/l
Cr3+: 2.2-2.8g/l
溫度: 50-55℃
陰極電流密度: 25-35A/dm2
S陰極面積:S陽極面積 1:2.5-3
2、每周對槽液進行兩次分析,控制槽液在工藝范圍內。
3、根據化驗結果補加材料,要求溶解好后加入鍍槽中,并做好記錄。
三)、設備的要求:
1、電源:對直流電源應發揮其應有效率,一般的利用率不低于65%、不高于85%。波紋系數不高于5%。
2、銅排、陰陽極桿應根據電源的要求配制,以免在生產過程中發熱,損失電能,使電流不能有效輸出。
3、陽極:陽極面積應是陰極的2.5-3倍,在實際生產中以掛滿為標準。
4、掛具:掛具應根據產品的不同而設計,總的原則是導電好。
5、槽體:溶液體積大一點,成份變化小,同時可適應大工件操作。
四)、操作要求:
1、做好半成品毛坯的檢查,對不合格的毛坯能修復的做好修復工作,不能修復的另行處理。
2、經檢驗合格的毛坯按公差大小分類,轉入下一道工序。
3、按電鍍硬鉻的工藝流程進行操作。
五)、電鍍注意事項:
1、毛坯前處理應干凈。
2、毛坯在槽液中預熱應充分,工件溫度應接近槽液溫度。
3、電鍍過程中溫度變化應控制在±2℃范圍內。
4、鍍鉻零件進入槽液內離液面不應低于50mm。






