為獲得良好的拋光效果，電流密度和電壓是緊密相關的。通常,電壓升高電流密度隨之增大，但這一現象只會繼續到一個臨界點。一旦達到這一點，電流密度將急速下降，電壓仍相應增高，超過這一點，電壓和電流密度又穩步增長。電拋光只有在電流密度比臨界點高時才會發生，低于這一點則出現腐蝕。通常電拋光使用直流電，在5.5一55.SA/dm2產生。
電地光對金屬的溶解極少，從奧拋光后的表面猜飾情況及拋光后的表面精飾處理來看，拋光厚度通常在2.5~65μm之間。深劃痕、沖壓記號及金屬中的非金屬夾雜物往往比電拋光失去的厚度深，雜亂的顆粒線和深深的劃痕(由粗研磨所致)，在其后的精加工中不能被去除。而電拋光可將它們去除，這些線和刻痕初是肉眼看不見的。電拋光是一項較快的操作，通常在2~12分鐘內完成。但如果從粗糙表面開始或必須去除較大量的金屬(如控制尺寸或去毛刺)，則將會需要更長的時間。

一些以硫酸為基除灰的商品化除灰添加劑，大多添加一種或多種添加劑，如氧化劑等。

1.溶液的溫度與電壓的關系

在額定的范圍內溶液的溫度越低，所需的電壓應越高，因為溶液溫度較低時氧化膜生成速度較緩慢，膜層較為致密，為獲得一定厚度的氧化膜，陽極氧化過程需升高電壓。當溶液的溫度較高時，氧化膜的溶解速度加塊，且生成的氧化膜是疏松的，此時降低電壓能適當改善氧化膜的質量。

2.陽極氧化溶液溫度與時間的關系  

溶液的溫度越低，所需的陽極氧化時間應越長。因為溶液溫度較低時氧化膜的生成速度緩慢。溶液的溫度升高時則氧化膜的生成速度加快。此時要縮短陽極氧化時間，否則由于氧化膜的外層電阻加大而導致膜層溶解，出現工件尺寸的改變、表面粗糙掉膜的現象。

以上措施只是在既無降溫設備，又無加溫裝置的條件下采取的應急措施。

二、染黑色溶液的配方與配制過程
1.配方及工藝條件

酸性毛元 

ATT 20～30g/L

酸性湖藍

 2～3g/L

溫度 

50～70℃

時間  

10～15min

PH值

3～3.5(或4.5～5.5)

2.配制方法

首先煮沸溶液，促使染料溶解完全，保證無疙瘩。待溶液冷卻后用濾紙過濾，濾去不溶物微粒及液面上漂浮的油狀物質。后測量pH值，用冷醋酸或氨水調整至工藝要求。

不僅如此，每一次鋁型材的來料檢測，也都可以用儀器來檢測每一批次的顏色和光澤，嚴格控制后續可能產生色差問題的源頭。  

首先 ，我們應該要弄清楚產生掛灰現象時，灰的種類，一般分三類：

1、“前處理一直攜帶的灰”，是指因為前處理沒有處理干凈，一直攜帶著到了后封孔環節仍然攜帶的灰；

2、“封閉白霧”，是指在封閉不良的情況下，工件表面呈現的白色的，霧狀的灰，往往很難擦掉，甚至擦掉了又會回來的霧；而噴砂件更是容易出現掛灰的現象，是因為其本身表面凹凸不平，這樣前處理比較難清洗，陽極氧化膜孔口方向也因為噴砂的原因而方向不一，封孔的時候，比較難控制到剛好封閉優良而又不掛封孔灰；

3、“封閉灰”，是指因為完全堵住微孔后，吸附在工件表面的臟東西，可以是過封孔的封孔劑成份，也可以是槽液中

1、判斷是否為“前處理灰”，如果出現的灰，輕松能擦掉，但是封閉質量還是不良，那就是前處理的灰，（因為水難洗掉，輕松能擦掉）。

解決辦法：請檢查前處理相關槽液，尤其是中和槽（其實判斷方法很簡單，用紙巾擦拭，無黑灰，黃灰，就基本判定是OK的）；

2、判斷是否為“封閉白霧”如果封閉不良，灰難擦，那就是封閉白霧，

解決辦法：請檢查封孔槽液的和相關水洗槽的PH值，（往往是偏酸導致的）；

陰極面積/陽極面積 1.5：1  影響氧化膜質量的因素主要有：

①硫酸濃度：通常采用15%～20%。濃度升高，膜的溶解速度加大，膜的生長速度降低，膜的孔隙率高，吸附力強，富有彈性，染色性好（易于染深色），但硬度，耐磨性略差；而降低硫酸濃度，則氧化膜生長速度加快，膜的孔隙少，硬度高，耐磨性好。

所以，用于防護，裝飾及純裝飾加工時，多使用允許濃度的上限，即20%濃度的硫酸做電解液。

②電解液溫度：電解液溫度對氧化膜質量影響很大。溫度升高，膜的溶解速度加大，膜厚降低。當溫度為22～30℃時，所得到的膜是柔軟的，吸附能力好，但耐磨性相當差；當溫度大于30℃時，膜就變得疏松且不均勻，有時甚至不連續，且硬度低，因而失去使用價值；當溫度在10～20℃之間時，所生成的氧化膜多孔，吸附能力強，并富有彈性，適宜染色，但膜的硬度低，耐磨性差；當溫度低于10℃，氧化膜的厚度增大，硬度高，耐磨性好，但孔隙率較低。因此，生產時必須嚴格控制電解液的溫度。要制取厚而硬的氧化膜時，必須降低操作溫度，在氧化過程中采用壓縮空氣攪拌和比較低的溫度，通常在零度左右進行硬質氧化。

③電流密度：在一定限度內，電流密度升高，膜生長速度升高，氧化時間縮短，生成膜的孔隙多，易于著色，且硬度和耐磨性升高；電流密度過高，則會因焦耳熱的影響，使零件表面過熱和局部溶液溫度升高，膜的溶解速度升高，且有燒毀零件的可能；電流密度過低，則膜生長速度緩慢，但生成的膜較致密，硬度和耐磨性降低。

④氧化時間：氧化時間的選擇，取決于電解液濃度，溫度，陽極電流密度和所需要的膜厚。相同條件下,當電流密度恒定時,膜的生長速度與氧化時間成正比；但當膜生長到一定厚度時,由于膜電阻升高,影響導電能力,而且由于溫升,膜的溶解速度增大，所以膜的生長速度會逐漸降低，到后不再增加。

⑤攪拌和移動：可促使電解液對流,強化冷卻效果，保證溶液溫度的均勻性，不會造成因金屬局部升溫而導致氧化膜的質量下降。

⑥電解液中的雜質：在鋁陽極氧化所用電解液中可能存在的雜質有Clˉ,Fˉ,NO3ˉ,Cu2+,Al3+,Fe2+等。其中 Clˉ,Fˉ,NO3ˉ使膜的孔隙率增加,表面粗糙和疏松。若其含量超過極限值,甚至會使制件發生腐蝕穿孔（Clˉ應小于0.05g/L,Fˉ應小于0.01g/L）；當電解液中Al3+含量超過一定值時，往往使工件表面出現白點或斑狀白塊,并使膜的吸附性能下降,染色困難（Al3+應小于20g/L）；當Cu2+含量達0.02g/L時，氧化膜上會出現暗色條紋或黑色斑點；Si2+ 常以懸浮狀態存在于電解液中,使電解液微量混濁,以褐色粉狀物吸附于膜上。

⑦鋁合金成分：一般來說,鋁金屬中的其它元素使膜的質量下降，且得到的氧化膜沒有純鋁上得到的厚,硬度也低，不同成分的鋁合金,在進行陽極氧化處理時要注意不能同槽進行。
隨著鋁制品加工的發展，鋁制品表面處理的代表-陽極氧化越來越受到行業的關注。如蘋果推出的Iphone 6S：通過表面陽極氧化處理，既能得到很高的硬度，又能得到天空灰、玫瑰金等效果。

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