對于直流電源來說，除了直流發電機組或各種電池的電源在正常有效時段是平穩的直流外，由交流電源經整流而得到的直流電源，都多少帶有脈沖因素，尤其是半波整流，明顯有負半周是沒有正向電流的，即使是單相全波，也存在一定脈沖率，加上所采用的濾波方法的不同、供電電網的穩定性等，都會使電鍍電源存在著明顯的不同。但是，在沒有注意到這種不同時，其對電鍍過程的影響往往會被視。

  通常認為，平穩的直流或接近平穩的直流是理想的電鍍電源。但是，實際情況并非如此，在有些場合，有一定脈沖的電流可能對電鍍過程更為有利。

  事實上，早在20世紀l0年代，就有人用換向電流進行過金的提純。在20世紀50年代，則有人用這種方法試驗從溴化鉀一三溴化鋁中鍍鋁，與此同時，可控硅整流裝置的出現，使一些電鍍技術開發人員注意到不同電源波形對電鍍過程的影響，這種影響有時是有利的，有時是不利的。到了20世紀70年代，電源對電鍍過程存在影響已經成為電鍍工作者的共識。現在，電源波形已經作為工藝參數之一在有些工藝中成為必要條件。

電鍍屬于電解加工過程，電源的因素必將對電鍍工藝過程產生直接影響，電鍍電源在電鍍工藝中具有重要地位。電鍍電源和低紋波系數整流電源在電鍍行業中的應用，讓電鍍界同仁在選擇整流電源、解決電鍍故障、提高電鍍質量有所幫助。

采用電拋光獲得的表面亮度(陽極光澤)不同于研磨或機械拋光獲得的亮度。它無刻痕、不變形、無方向性且顯露出金屬的本色。由于表面幾何形狀是三維的，表面光滑度也有所不同，用普通的觸針型儀器測定是困難的且不準確。與一般的想法不同，表面光亮度不是表示光滑度。在適當的電拋光條件下，表面粗糙度(按微米測量)通常從66%下降到33%，但當微米值低于電拋光前時，改善的百分率也會相應下降。有時，由于不良冶金狀態或表面狀態，微米值不會下降，甚至有時會有所提高。這些冶金狀態和表面狀態在很大程度上決定理想的電拋光效果。產生不好效果主要的原因是：晶粒尺寸結構不均、非金屬夾雜物、定向軋輥痕跡、鹽類或氧化物污染、酸洗過度以及淬火過度。為獲得真正的反射性精飾表面所作的電拋光，微粒沉積物則是致關重要的。

電拋光為金屬表面精加工的一種方法。它是以懸掛在電解槽中的金屬制品為陽極，于特定條件下電解，通過陽極金屬的溶解，以消除制品表面的細微不平，使之具有鏡面般光澤外觀的過程。常用這種方法提高鋁及其合金、碳鋼、不銹鋼以及其他有色金屬表面的光潔度，來滿足某些部件工作條件中的需要（例如需要降低表面的摩擦系數、要求精密的公差配合等）和改善金屬制品的裝飾性外觀。
電拋光還可以除去金屬表面上的某些機械損傷。與機械拋光相比，電拋光加工后的表面無應力產生。但是，過于粗糙的表面，不宜于直接進行電拋光。

電解時，一般說來，電解中的金屬陽極溶解往往使金屬表面變得更加粗糙。盡管有時表面能變得比較平整，但也難以使其表面達到光澤。因此，電拋光需要在一定成分的電解液中和特定的工藝條件（電流密度、溫度、拋光時間、對電解液的攪拌條件等）下進行。而且對不同金屬材料的電拋光，所要求的電解液成分與工藝條件也明顯不同。

設備功能：
觸摸屏控制方式；
時時參數曲線實時顯示電壓、電流隨時間變化的曲線；
帶程序存貯功能，電壓、電流、溫度時時顯示；
可與電腦通訊，數據可輸出保存，可與打印機連接通訊輸出；
帶恒溫槽，加熱方式熱電制冷，帶磁力攪拌，帶溫度檢測；
穩壓穩流自動切換；
可與電腦連機通訊、進行數據保存；

中試型電化學拋光設備
適合于工件放大加工生產的情況，也可適用于電解拋光加工數量較少的客戶使用；設備占地小，使用方便，操作簡單，投資小。

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