1.3.4 直流疊加功能。輸出正反向脈沖電流的同時，由同一臺電源疊加輸出一純直流成分，更拓寬了脈沖電源的使用范圍及用途。
近幾年來，國產多功能脈沖電源技術已趨于成熟，其中脈沖波形垂直程度，波形平穩程度、穩定性、抗干擾性等指標達到甚至超過了國外水平。
直流電源波形對電鍍質量有突出的影響，例如：高頻率定脈寬高頻穩壓/穩流脈沖電源電鍍時會產生特殊效應，這也是普通直流電源電鍍無法達到的效果，有些現象還不能用常規電化學理論來加以解釋。而直流波形對電鍍沉積的影響目前還難以從理論上進行預測，只能通過大量的試驗來作相對比較，篩選出適宜的波形。

2 電鍍電源對電鍍工藝的影響
2.1 鍍鉻
各類電鍍工藝中，鍍鉻是受電源波形影響大的鍍種之一。鍍鉻必須采用低紋波直流電源，否則光亮范圍窄，鍍層易發花、發灰，這一點已為不少人認同，但實踐中仍有因對其認識不足，往往由于紋波系數過大影響套鉻質量而束手無策的事時有發生。因此，電鍍電源的選擇就更顯重要。
對于經常使用反向電解的電鍍硬鉻生產，需要電源極性換向裝置。簡單的方法是使用手動換向開關。由于電流很大，開關通、斷時會形成較大的電火花，開關很容易損壞。將觸點浸入變壓器油中可以延長使用壽命。可控硅整流器實現換向比較容易，由于是無觸點換向，不會產生火花腐蝕。如電流變化不大時，可考慮使用可控硅極換向裝置。
電源波形對鍍鉻的影響較大。而且往往容易被操作者忽視。如某廠小件鍍裝飾鉻，覆蓋能力非常差，反復調整鍍液中硫酸與鉻酐的比值，仍無效。經現場查驗，采用1000A老式可控硅整流器，且平均電流僅200A左右，負荷率很低，顯然輸出紋波系數太大。換接一臺雙反星形輸出的硅整流器，鍍鉻即轉為正常。另有某廠鍍鉻上午生產正常，下午即出現裝飾鉻局部發灰，無法生產，懷疑鍍液故障，反復加硫酸、碳酸鋇調整一兩天，均無法解決。分析原因，鍍液成分不可能突變，懷疑硅整流管有損壞造成波形殘缺而增大紋波。用鉗形電流表測定各整流管電流，發現斷路2支，更換新管后，故障消除。
鍍微裂紋硬鉻，輸出紋波過大時，裂紋不細密且分布不均勻。
采用脈沖電鍍鉻，也可得到優良的鍍層。研究表明，當采用工藝條件為：頻率1000Hz，占空比通：斷=1/5，平均電流密度40A/dm2，30度溫度，獲得的鍍鉻層耐磨性提高三倍;耐腐蝕性提高5倍。
2.2 光亮酸性鍍銅
一般情況下，光亮鍍銅都有一個規律：從赫爾槽試片上看，陰極電流密度越大的地方，鍍層光亮整平性越好;電流密度越低，光亮整平性越差。試圖擴展低電流密度區光亮范圍，始終是電鍍工作者不斷追求的目標。需要從光亮劑、工藝配方與工藝條件、設備等多方面入手。光亮酸性鍍銅是迄今光亮整平性好的鍍種之一。但在實踐中，采用同樣的配方、工藝條件，使用相同的光亮劑，得到的光亮整平性與光亮范圍，卻可能出現較大差異。究其原因，與所用直流電源輸出紋波系數大小有很大關系。據有關資料，二十多年前，國內在開發MN系列光亮酸性鍍銅添加劑時就已證實。規律是：輸出紋波系數越小，鍍層光亮整平性越好，光亮電流密度范圍越寬。而且，紋波越小，光亮劑的用量也會越小。遺憾的是時至今日并未引起電鍍工藝技術人員的重視。

二）、槽液的要求及控制：
1、槽液的成份及工藝條件：
CrO3: 240-260g/l
H2SO4: 2.4-3.0g/l
Cr3+: 2.2-2.8g/l 
溫度： 50-55℃
陰極電流密度： 25-35A/dm2
S陰極面積:S陽極面積 1:2.5-3
2、每周對槽液進行兩次分析，控制槽液在工藝范圍內。
3、根據化驗結果補加材料，要求溶解好后加入鍍槽中，并做好記錄。

三）、設備的要求：
1、電源：對直流電源應發揮其應有效率，一般的利用率不低于65%、不高于85%。波紋系數不高于5%。
2、銅排、陰陽極桿應根據電源的要求配制，以免在生產過程中發熱，損失電能，使電流不能有效輸出。
3、陽極：陽極面積應是陰極的2.5-3倍，在實際生產中以掛滿為標準。
4、掛具：掛具應根據產品的不同而設計，總的原則是導電好。
5、槽體：溶液體積大一點，成份變化小，同時可適應大工件操作。
 
四）、操作要求：
1、做好半成品毛坯的檢查，對不合格的毛坯能修復的做好修復工作，不能修復的另行處理。
2、經檢驗合格的毛坯按公差大小分類，轉入下一道工序。
3、按電鍍硬鉻的工藝流程進行操作。

五）、電鍍注意事項：
1、毛坯前處理應干凈。
2、毛坯在槽液中預熱應充分，工件溫度應接近槽液溫度。
3、電鍍過程中溫度變化應控制在±2℃范圍內。
4、鍍鉻零件進入槽液內離液面不應低于50mm。

不銹鋼拋光后亮度等級    目測法，將拋光后零件 表面的光亮度分為5級：

1級：表面有白色氧化膜，無光亮度；

2級：略有光亮，看不清輪廓；

3級：光亮度較好，能看出輪廓；    

4級：表面光亮 ，較清晰地看出輪廓 (相當于電化學拋光的表面質量)；   

5級：鏡面般光亮。

酸洗是去除堿蝕后表面的污漬掛灰，以獲得比較潔凈的表面。同時中和殘留的堿性溶液與鋁件表面化學反應的作用。

拋光有兩種，一種是電解拋光、一種是化學拋光。電解拋光是利用電流的作用，使鋁合金發生電化學反應，在鋁合金表面凹凸不平的部分發生不同程度的深解，使鋁件表面產生光滑的鏡面效果。電解拋光的鋁件，經過后續的陽極氧化處理仍能保持大部分光澤。鋁片的純度越高得到的反射率越高；化學拋光是通過鋁與化學拋光液發生的化學離子反應，對樣品表面凹凸不平區域的選擇性溶解作用來消除磨痕、浸蝕整平。

陽極氧化就是在外加電流的作用下，在陽極上發生氧化，形成一層氧化膜的過程。
水洗是陽極氧化之后，氧化膜的膜孔中殘留有硫酸溶液，因此，染色之前必須將鋁制品徹底清洗干凈。避免給染色槽帶人雜質離子，尤其是磷酸根離子、氟離子等，在染色槽之前設立純水清洗，并且要對水質進行。

著色是采用化學浸漬法，通常認為是既有物理吸附也包括有機染料官能團與氧化鋁發生的絡合反應。

封孔處理是陽極氧化不可缺少的一部分，在氧化染色后，唯有進行封孔處理才能保證染色膜的原有顏色。封孔工藝可以有多種，蒸氣封孔、熱水封孔、中溫封孔都是不錯的選擇，部分染料還可以選擇冷封孔工藝。氧化膜的表面是多孔的，在這些孔隙中可吸附染料，也可吸附結晶水.由于吸附性強，如不及時處理，也可能吸附雜質而被污染，所以要及時進行填充處理，從而提高多孔膜的強度等性能.封閉處理的方法很多，如沸水法、高壓蒸氣法，浸漬金屬鹽法和填充有機物（油，合成樹脂）等。

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