采用電拋光獲得的表面亮度(陽(yáng)極光澤)不同于研磨或機(jī)械拋光獲得的亮度。它無(wú)刻痕、不變形、無(wú)方向性且顯露出金屬的本色。由于表面幾何形狀是三維的，表面光滑度也有所不同，用普通的觸針型儀器測(cè)定是困難的且不準(zhǔn)確。與一般的想法不同，表面光亮度不是表示光滑度。在適當(dāng)?shù)碾姃伖鈼l件下，表面粗糙度(按微米測(cè)量)通常從66%下降到33%，但當(dāng)微米值低于電拋光前時(shí)，改善的百分率也會(huì)相應(yīng)下降。有時(shí)，由于不良冶金狀態(tài)或表面狀態(tài)，微米值不會(huì)下降，甚至有時(shí)會(huì)有所提高。這些冶金狀態(tài)和表面狀態(tài)在很大程度上決定理想的電拋光效果。產(chǎn)生不好效果主要的原因是：晶粒尺寸結(jié)構(gòu)不均、非金屬夾雜物、定向軋輥痕跡、鹽類或氧化物污染、酸洗過(guò)度以及淬火過(guò)度。為獲得真正的反射性精飾表面所作的電拋光，微粒沉積物則是致關(guān)重要的。

1.3.4 直流疊加功能。輸出正反向脈沖電流的同時(shí)，由同一臺(tái)電源疊加輸出一純直流成分，更拓寬了脈沖電源的使用范圍及用途。
近幾年來(lái)，國(guó)產(chǎn)多功能脈沖電源技術(shù)已趨于成熟，其中脈沖波形垂直程度，波形平穩(wěn)程度、穩(wěn)定性、抗干擾性等指標(biāo)達(dá)到甚至超過(guò)了國(guó)外水平。
直流電源波形對(duì)電鍍質(zhì)量有突出的影響，例如：高頻率定脈寬高頻穩(wěn)壓/穩(wěn)流脈沖電源電鍍時(shí)會(huì)產(chǎn)生特殊效應(yīng)，這也是普通直流電源電鍍無(wú)法達(dá)到的效果，有些現(xiàn)象還不能用常規(guī)電化學(xué)理論來(lái)加以解釋。而直流波形對(duì)電鍍沉積的影響目前還難以從理論上進(jìn)行預(yù)測(cè)，只能通過(guò)大量的試驗(yàn)來(lái)作相對(duì)比較，篩選出適宜的波形。

2 電鍍電源對(duì)電鍍工藝的影響
2.1 鍍鉻
各類電鍍工藝中，鍍鉻是受電源波形影響大的鍍種之一。鍍鉻必須采用低紋波直流電源，否則光亮范圍窄，鍍層易發(fā)花、發(fā)灰，這一點(diǎn)已為不少人認(rèn)同，但實(shí)踐中仍有因?qū)ζ湔J(rèn)識(shí)不足，往往由于紋波系數(shù)過(guò)大影響套鉻質(zhì)量而束手無(wú)策的事時(shí)有發(fā)生。因此，電鍍電源的選擇就更顯重要。
對(duì)于經(jīng)常使用反向電解的電鍍硬鉻生產(chǎn)，需要電源極性換向裝置。簡(jiǎn)單的方法是使用手動(dòng)換向開關(guān)。由于電流很大，開關(guān)通、斷時(shí)會(huì)形成較大的電火花，開關(guān)很容易損壞。將觸點(diǎn)浸入變壓器油中可以延長(zhǎng)使用壽命。可控硅整流器實(shí)現(xiàn)換向比較容易，由于是無(wú)觸點(diǎn)換向，不會(huì)產(chǎn)生火花腐蝕。如電流變化不大時(shí)，可考慮使用可控硅極換向裝置。
電源波形對(duì)鍍鉻的影響較大。而且往往容易被操作者忽視。如某廠小件鍍裝飾鉻，覆蓋能力非常差，反復(fù)調(diào)整鍍液中硫酸與鉻酐的比值，仍無(wú)效。經(jīng)現(xiàn)場(chǎng)查驗(yàn)，采用1000A老式可控硅整流器，且平均電流僅200A左右，負(fù)荷率很低，顯然輸出紋波系數(shù)太大。換接一臺(tái)雙反星形輸出的硅整流器，鍍鉻即轉(zhuǎn)為正常。另有某廠鍍鉻上午生產(chǎn)正常，下午即出現(xiàn)裝飾鉻局部發(fā)灰，無(wú)法生產(chǎn)，懷疑鍍液故障，反復(fù)加硫酸、碳酸鋇調(diào)整一兩天，均無(wú)法解決。分析原因，鍍液成分不可能突變，懷疑硅整流管有損壞造成波形殘缺而增大紋波。用鉗形電流表測(cè)定各整流管電流，發(fā)現(xiàn)斷路2支，更換新管后，故障消除。
鍍微裂紋硬鉻，輸出紋波過(guò)大時(shí)，裂紋不細(xì)密且分布不均勻。
采用脈沖電鍍鉻，也可得到優(yōu)良的鍍層。研究表明，當(dāng)采用工藝條件為：頻率1000Hz，占空比通：斷=1/5，平均電流密度40A/dm2，30度溫度，獲得的鍍鉻層耐磨性提高三倍;耐腐蝕性提高5倍。
2.2 光亮酸性鍍銅
一般情況下，光亮鍍銅都有一個(gè)規(guī)律：從赫爾槽試片上看，陰極電流密度越大的地方，鍍層光亮整平性越好;電流密度越低，光亮整平性越差。試圖擴(kuò)展低電流密度區(qū)光亮范圍，始終是電鍍工作者不斷追求的目標(biāo)。需要從光亮劑、工藝配方與工藝條件、設(shè)備等多方面入手。光亮酸性鍍銅是迄今光亮整平性好的鍍種之一。但在實(shí)踐中，采用同樣的配方、工藝條件，使用相同的光亮劑，得到的光亮整平性與光亮范圍，卻可能出現(xiàn)較大差異。究其原因，與所用直流電源輸出紋波系數(shù)大小有很大關(guān)系。據(jù)有關(guān)資料，二十多年前，國(guó)內(nèi)在開發(fā)MN系列光亮酸性鍍銅添加劑時(shí)就已證實(shí)。規(guī)律是：輸出紋波系數(shù)越小，鍍層光亮整平性越好，光亮電流密度范圍越寬。而且，紋波越小，光亮劑的用量也會(huì)越小。遺憾的是時(shí)至今日并未引起電鍍工藝技術(shù)人員的重視。

化學(xué)拋光
化學(xué)拋光是不銹鋼常用的表面處理工藝，與電化學(xué)拋光工藝相比，其大優(yōu)點(diǎn)是不需要直流電源和特殊夾具，可以拋光形狀復(fù)雜的零件，生產(chǎn)率很高。就功能性而言，化學(xué)拋光除了能得到物理、化學(xué)清潔度的表面外，還能除去不銹鋼表面的機(jī)械損傷層和應(yīng)力層，得到機(jī)械清潔度的表面，這有利于防止零件的局部腐蝕，提高機(jī)械強(qiáng)度、延長(zhǎng)零件使用壽命。從本世紀(jì)40年代初有了關(guān)于不銹鋼化學(xué)拋光的以來(lái)，迄今已有不少配方公諸于世，但人們?cè)趯?shí)際應(yīng)用時(shí)仍然感到很困難。因?yàn)椴讳P鋼品種繁多，不同牌號(hào)的不銹鋼具有不同的腐蝕規(guī)律，不可能采用同一種溶液，所以不銹鋼化學(xué)拋光溶液有多種類型。
化學(xué)拋光溶液的基本組成包括腐蝕劑、氧化劑和水。腐蝕劑是主要成份，如果不銹鋼在溶液中溶解，拋光便不能進(jìn)行。氧化劑和添加劑可抑制過(guò)程，使反應(yīng)朝有利于拋光的方向進(jìn)行。水對(duì)溶液濃度起調(diào)節(jié)作用，便于反應(yīng)產(chǎn)物的擴(kuò)散。不銹鋼化學(xué)拋光能否順利進(jìn)行，取決于上述成分的合理配合。

電化學(xué)拋光過(guò)程分為兩步：
(1)宏觀整平 溶解產(chǎn)物向電解液中分散,材料外表幾何毛糙下降,Ra＞1μm。
(2)微光平坦陽(yáng)極極化，外表光明度提高,Ra＜1μm。
4. 超聲波拋光
將工件放入磨料懸浮液中并一起置于超聲波場(chǎng)中,依賴超聲波的振蕩作用.使磨料在工件外表磨削拋光。超聲波加工宏觀力小,不會(huì)引起工件變形,但工裝制作和安裝較艱難。
超聲波加工可以與化學(xué)或電化學(xué)方式結(jié)合。在溶液腐蝕、電解的根底上,再施加超聲波振動(dòng)攪拌溶液,使工件外表溶解產(chǎn)物脫離,外表左近的腐蝕或電解質(zhì)平均；超聲波在液體中的空化作用還可以克制腐蝕過(guò)程,利于外表光明化。
5.流體拋光
流體拋光是依賴高速流動(dòng)的液體及其攜帶的磨粒沖刷工件外表到達(dá)拋光的目標(biāo)。常用方式有：磨料放射加工、液體放射加工、流體動(dòng)力研磨等。流體動(dòng)力研磨是由液壓驅(qū)動(dòng),使攜帶磨粒的液體介質(zhì)高速往復(fù)流過(guò)工件外表。
介質(zhì)重要采取在較低壓力上流過(guò)性好的特別化合物(聚合物狀物質(zhì))并摻上磨料制成,磨料可采取碳化硅粉末。
6.磁研磨拋光
磁研磨拋光是利用磁性磨料在磁場(chǎng)作用下形成磨料刷,對(duì)工件磨削加工,這種方式加工效率高,質(zhì)量好,加工條件容易控制,工作條件好。
為了增加奧氏體不銹鋼焊件的耐腐蝕性，不銹鋼的表面應(yīng)該做拋光和鈍化處理。還需要酸洗等操作。
表面拋光，不銹鋼焊件表面如有刻痕，凹痕，粗糙點(diǎn)和污染點(diǎn)，便會(huì)影響耐腐蝕性，因此必須對(duì)表面進(jìn)行拋光，使其產(chǎn)生一層致密、均勻的氧化膜，以保護(hù)內(nèi)部金屬不再受到氧化和腐蝕。
鈍化處理，是在不銹鋼表面，有用人工的方法形成一層鈍化膜 ，以增加其耐腐蝕性。鈍化處理流程如下，
焊件表面清理和修補(bǔ)——酸洗——水洗和中和——鈍化——水洗和吹干。處理前先對(duì)焊件進(jìn)行表面清理和修補(bǔ)，將表面損傷處修補(bǔ)好，然后用手提角向砂輪磨光，并把焊渣及飛濺物清理干凈。

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